FT-IR-ATR,FT-IR-RASを用いたSi自然酸化膜成長過程の観察

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概要

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• フーリエ赤外分光(Fourier-transformInfrared Spectroscopy)のATR(Attenuated Total Reflection)法とRAS(Reflection Absorption Spectroscopy)法を用いて、原子レベルで平坦化したSi(111)面に水中酸化により自然酸化膜が成長する様子を観察した。ATR法ではSi-H結合のRAS法ではSi-O結合の変化を観察した。酸化に際し、ステップ・エッジのテラス部分に対する優先性は認められなかった。また、酸化初期状態のRASスペクトル形状とその酸化時間に対する変化は、表面に島状に析出した酸化物があると仮定すると説明できた。これは、酸化はLayer-by-layerではなく島状に進行する事を示唆する。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1993-04-22

著者

• 藤村 修三

  一橋大イノベーション研

• 藤村 修三

  富士通(株)

• 藤村 修三

  富士通株式会社

• 藤村 修三

  富士通基礎プロセス開発部

• 藤村 修三

  東工大

• 森 治久

  富士通基礎プロセスカイハツブ

• 石川 健治

  富士通研究所

• 石川 健治

  富士通研究所(株)ファブテクノロジ研究部

• 藤村 修三

  東京工業大学

• 小川 洋輝

  富士通製造技術統括部

• 石川 健治

  富士通基礎プロセス開発部

• 猪股 カルロス

  富士通基礎プロセスカイハツブ

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