水素ダウンフロー処理によるコンタクトホール洗浄

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概要

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水素+水プラズマダウンフローにNF_3を添加して自然酸化膜を除去する水素ダウンフロー処理の低温でのエッチング量増加と酸化膜種依存性、処理圧力と処理時間依存性について考察した。NH_4F溶液と類似するエチャントの吸着と、水分比率の少ない凝集層が表面に形成され、不純物酸化物のエッチングが低減された。また、圧力依存性は水素原子の生成・輸送の圧力依存からエッチャントの生成が律速し、吸着過程が十分であれば、100Pa程度の圧力での処理においてエッチングが最適となる。
1998-08-21

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