村上 浩一 | 筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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概要
関連著者
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村上 浩一
筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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牧村 哲也
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
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村上 浩一
筑波大学
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新納 弘之
(独)産業技術総合研究所 光技術研究部門
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新納 弘之
産業技術総合研究所 光技術研究部門
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村上 浩一
筑波大学物質工学系
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村上 浩一
筑波大学物理工学系、特プロ"ナノサイエンス"
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鳥居 周一
筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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鳥居 周一
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻
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牧村 哲也
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻
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村上 浩一
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻
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牧村 哲也
筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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村上 浩一
筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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藤森 隆成
筑波大学大学院数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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牧村 哲也
筑波大学
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村上 浩一
筑波大学, 筑波大特プロ"ナノサイエンス"
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牧村 哲也
筑波大学物理工学系
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野中 誠
昭和大学藤が丘病院呼吸器外科
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中村 大輔
九州大学大学院システム情報科学研究院
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新納 弘之
産業技術総合研究所光反応制御研究センター
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高橋 昭彦
九州大学
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中村 大輔
九州大学
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岡田 龍雄
九州大学大学院システム情報科学研究科
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岡田 龍雄
九大シス情
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岡崎 功太
九州大学
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深田 直樹
東北大金研:(現)筑波大物理工学系
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深田 直樹
物質材料研究機構
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新納 弘之
産業技術総合研究所 光反応制御研究センター
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岡崎 功太
九州大学大学院 システム情報科学研究院
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深田 直樹
物質・材料研究機構
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新納 弘之
独立行政法人 産業技術総合研究所 光技術研究部門 レーザー精密プロセスグループ
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村上 浩一
筑波大数理物質(電子・物理)
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岡崎 功太
九州大学医学研究院
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牧村 哲也
筑波大学 大学院数理物質科学研究科
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鳥居 周一
筑波大学 大学院数理物質科学研究科
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内田 智
筑波大学大学院数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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藤森 隆成
筑波大学 数理物質科学研究科電子・物理工学専攻
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岡田 龍雄
九大 大学院システム情報科学研究院
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金井 直樹
北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科
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新納 弘之
産総研・光技術
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新納 弘之
(独)産業技術総合研究所
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内田 智
筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
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水田 泰治
筑波大学物理工学系
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北島 正弘
金属材料技術研究所
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岡田 龍雄
九州大学 システム情報科学研究院
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岡田 龍雄
九州大学
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南 海玉
筑波大学大学院工学研究科
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升田 公三
筑波大学物質工学系
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石岡 邦江
物材機構
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高橋 昭彦
九州大学医学部保健学科
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石岡 邦江
金材技研
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依田 修
日本原子力研究所高崎研究所
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依田 修
日本原子力研究所関西研究所
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宮下 敦巳
日本原子力研究所高崎研究所
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中村 大輔
九大シス情
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秋山 智哉
九州大学
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藤村 修三
一橋大イノベーション研
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石岡 邦江
物質・材料研究機構 材料研究所
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藤村 修三
富士通(株)
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MURAKAMI Kouichi
Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tsukuba Academic City
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MAKIMURA Tetsuya
Institute of Applied Physics, University of Tsukuba
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藤村 修三
富士通株式会社
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藤村 修三
富士通基礎プロセス開発部
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KUNII Yasuhiko
Institute of Materials Science, University of Tsukuba
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藤村 修三
東工大
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北島 正弘
物材機構:筑波大
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藤村 修三
東京工業大学
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宮下 敦巳
原研 高崎研
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宮下 敦巳
日本原子力研究所 高崎研究所
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劔持 洋一
筑波大学
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宮本 久生
筑波大学
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森 道昭
原子力研究所
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近藤 公伯
大阪大学
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近藤 公伯
日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門光量子科学研究ユニット
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羽田 肇
無機材質研究所
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岡田 龍雄
九州大学大学院システム情報科学研究院
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内田 紀行
産総研ナノ電子デバイス研究センター
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関根 幸平
イオン工学研究所
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関根 幸平
(株)イオン工学研究所
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関根 幸平
(株)イオン工学センター
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北島 正弘
金材技研
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菊地 純
富士通(株)
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鳥居 周一
筑波大学電子・物理工学
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牧村 哲也
筑波大学電子・物理工学
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新納 弘之
産総研光技術
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村上 浩一
筑波大学電子・物理工学
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秋山 智哉
九州大学大学院システム情報科学研究院
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井上 毅彦
筑波大学
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李 常青
筑波大学物理工学系
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羽田 肇
九州大学大学院量子プロセス理工学:物質材料研究機構
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深田 直樹
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻(物理工学系)
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村上 浩一
筑波大物質工
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中村 大輔
九州大学大学院 システム情報科学研究院
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國井 康彦
筑波大学物質工学系
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中村 一隆
金材研
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中村 一隆
金属材料技術研究所
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石岡 邦江
金属材料技術研究所第2研究グループ
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深田 直樹
筑波大物質工学系
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深田 直樹
筑波大学物質工学
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佐々木 慎一
筑波大学物質工学
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内田 紀行
筑波大数理物質(電子・物理)
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岡見 威
筑波大数理物質(電子・物理)
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金藤 浩史
筑波大数理物質(電子・物理)
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金藤 浩史
産総研次世代半導体研究センター
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鈴木 岳志
筑波大学 物質工学系
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上田 孝
筑波大学 物質工学系
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ONO Naoto
Institute of Materials Science, University of Tsukuba
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Kunii Yasuhiko
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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Ono Naoto
Institute Of Materials Science University Of Tsukuba
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北島 正弘
物質・材料研究機構物性解析研究グループ
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Murakami Kouichi
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
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Makimura T
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
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Makimura Tetsuya
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
-
Makimura Tetsuya
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba Tsukuba
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岡田 龍雄
九州大学大学院 システム情報科学研究院
-
岡田 龍雄
九州大学大学院 システム情報科学府・研究院
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新納 弘之
産総研電子光技術
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鳥居 周一
筑波大院 電子・物理工学
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牧村 哲也
筑波大院 電子・物理工学
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村上 浩一
筑波大院 電子・物理工学
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岡崎 功太
九大シス情
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高橋 昭彦
九大医学研究院
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岡田 龍雄
九州大学大学院 システム情報科学府
-
中村 大輔
九州大学大学院 システム情報科学府
-
関口 隆史
(独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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深田 直樹
(独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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石田 慎哉
筑波大学
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滝口 亮
筑波大学
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横野 茂樹
筑波大学
著作論文
- X線エキシトン法による石英のナノ加工
- 短時間レ-ザ照射によるイオン注入GaAs層の結晶性回復:注入量及びド-ズレ-ト依存性
- レーザー生成EUV光によるシリカガラスのアブレーション
- 赤外レーザーと近接場光を組み合わせたシリカガラスの微細加工
- レーザープラズマ軟X線アブレーションによる微細加工
- ナノ加工を目指したレーザプラズマ軟X線によるシリカガラスの非熱的アブレーションプロセスの探索
- レーザ生成プラズマEUV光による透明材料の直接加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーション過程
- レーザプラズマ軟X線による透明材料の微細加工法の探索
- レーザープラズマ軟X線による透明材料のマイクロ・ナノ加工と加工プロセス
- CO_2レーザー生成プラズマEUV光を用いた透明材料の加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーションとそのメカニズムの検討
- レーザプラズマ軟X線による無機透明材料のアブレーション加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスの極微細加工
- レーザープラズマ軟X線によるガス中での無機透明材料のアブレーション
- レーザープラズマ軟X線による石英ガラスのナノ加工
- レーザー光と固体との相互作用
- レーザアブレーション法による可視発光Siナノ微粒子の生成ダイナミックスと表面修飾
- レーザー光を利用した物質科学
- 2. アブレーションプラズマを用いた材料開発 (アブレーションプラズマのプロセス応用)
- シリコンナノ微粒子の生成の動的機構と可視発光
- レーザーとナノ物性 : レーザーアブレーションで創製したSiナノ構造の物性
- 1p-T-2 結晶シリコン中の水素分子の検出とその挙動
- 水素原子処理シリコン結晶中の水素分子
- 20pTG-6 レーザーアニールによるシリコン酸化膜中でのシリコンナノ結晶ドット形成過程(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- アモルファスGaAsのレ-ザ-固相エピタキシャル成長
- レーザープラズマ軟X線吸収分光を用いたアブレーション粒子の時間分解測定
- レーザーアブレーションの動的機構とナノクラスター生成
- 「レーザーアブレーションによる機能性ナノ微粒子の創製」解説小特集号によせて
- レーザーアブレションによるSiナノ微粒子形成の物理機構
- 可視発光シリコンナノ微粒子 -レーザーアブレーション-
- レーザーアブレーション法による可視発光a-Si/SiO_2およびSiナノクラスター/SiO_2積層構造の製作
- 結晶シリコン中の水素分子と水素複合体中心
- Visible Light Emission from SiO_x Films Synthesized by Laser Ablation
- Light Emission from Nanometer-Sized Silicon Particles Fabricated by the Laser Ablation Method
- レーザーアブレーション法による可視発光シリコン超微粒子の作成
- レ-ザ-アブレ-ション法による可視発光シリコン超微粒子の作成
- 半導体中不純物の準安定性/双安定性
- 半導体研究へのレ-ザ-プラズマX線の応用 (X線顕微鏡特集号)
- パルスレ-ザ-照射による固体Siの高速相変化
- 半導体のパルス・レーザー・アニール機構(VI. 半導体の格子緩和,強結合電子・格子系の動的物性,科研費研究会報告)
- レ-ザ-・アニ-ルによる非平衡・超高不純物濃度のSi:Te,Si:Zn系作成--非平衡・超高不純物濃度のSi:Te系作成
- イオン注入Siのパルス・レ-ザ-・アニ-ル--注入不純物とスピン密度依存性
- レ-ザ-・固体相互作用とレ-ザ-・プロセッシング会議報告
- イオンビ-ムプロセッシングの基礎過程--非平衡状態と動的過程のレ-ザ-照射による研究 (ビ-ムとプラズマの化学)
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーションメカニズム
- XUV-X線による材料加工
- 高パワー密度狭帯域軟X線加工装置の開発とシリコーンゴムの微細加工
- シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)