関口 隆史 | (独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点

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概要

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• 同名の論文著者
• (独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点の論文著者

関連著者

• 村上 浩一

  筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻

• 深田 直樹

  東北大金研:(現)筑波大物理工学系

• 深田 直樹

  物質材料研究機構

• 関口 隆史

  (独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点

• 深田 直樹

  (独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点

• 村上 浩一

  筑波大学

• 石田 慎哉

  筑波大学

• 滝口 亮

  筑波大学

• 横野 茂樹

  筑波大学

• 深田 直樹

  物質・材料研究機構

著作論文

• シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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