20pTG-6 レーザーアニールによるシリコン酸化膜中でのシリコンナノ結晶ドット形成過程(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2007-02-28
著者
-
村上 浩一
筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
-
内田 紀行
産総研ナノ電子デバイス研究センター
-
村上 浩一
筑波大数理物質(電子・物理)
-
深田 直樹
東北大金研:(現)筑波大物理工学系
-
深田 直樹
物質材料研究機構
-
内田 紀行
筑波大数理物質(電子・物理)
-
岡見 威
筑波大数理物質(電子・物理)
-
金藤 浩史
筑波大数理物質(電子・物理)
-
金藤 浩史
産総研次世代半導体研究センター
-
村上 浩一
筑波大学
-
深田 直樹
物質・材料研究機構
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