レーザーアブレーション法により生成したSiナノ細線 : 酸化による細線径および応力の制御と不純物ドーピング
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- シリコンナノ粒子系エレクトロルミネッセンス素子の不純物ドーピングによるキャリア注入効率向上
- 22aPS-70 スピネル型Mn酸化物薄膜の赤外及びラマン散乱
- レーザーとナノ物性 : レーザーアブレーションで創製したSiナノ構造の物性
- 1p-T-2 結晶シリコン中の水素分子の検出とその挙動
- 水素原子処理シリコン結晶中の水素分子
- 20pTG-6 レーザーアニールによるシリコン酸化膜中でのシリコンナノ結晶ドット形成過程(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 29pYC-9 水素添加CXシリコンの電子照射誘起点欠陥-不純物複合体
- 31aYG-10 p 型シリコン結晶の電子照射誘起点欠陥による光吸収
- 30pYG-5 水素を用いたシリコン結晶中の欠陥の検出と原子空孔形成エネルギーの決定
- 水素を利用したシリコン結晶中のワトキンスの置換反応の研究 (放射線とイオンビームによる物質構造の研究と改質・合成)
- 17pTG-8 水素ガス中加熱急冷法によるシリコン中の原子空孔形成エネルギーの研究
- 24aY-1 シリコン中の水素による光吸収スペクトルの温度依存性
- 31a-ZA-6 シリコン中の水素・アクセプター対による光吸収
- レーザーアブレーション法により生成したSiナノ細線 : 酸化による細線径および応力の制御と不純物ドーピング
- シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 405 N-DLC/DLC多層膜の細胞親和性評価(OS5-(2)オーガナイズドセッション《ライフサポートにおける工学技術》)
- 404 磁性蛍光シリコンナノ粒子の光学特性 : サイズ依存性(OS5-(2)オーガナイズドセッション《ライフサポートにおける工学技術》)