レーザーとナノ物性 : レーザーアブレーションで創製したSiナノ構造の物性
スポンサーリンク
概要
著者
-
村上 浩一
筑波大学 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
-
村上 浩一
筑波大数理物質(電子・物理)
-
牧村 哲也
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻
-
村上 浩一
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻
-
深田 直樹
筑波大学大学院 電子・物理工学専攻(物理工学系)
-
深田 直樹
東北大金研:(現)筑波大物理工学系
-
深田 直樹
物質材料研究機構
-
牧村 哲也
Institute Of Applied Physics University Of Tsukuba
-
牧村 哲也
筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
-
村上 浩一
筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻
-
村上 浩一
筑波大学
-
深田 直樹
物質・材料研究機構
関連論文
- X線エキシトン法による石英のナノ加工
- シリコンナノ粒子系エレクトロルミネッセンス素子の不純物ドーピングによるキャリア注入効率向上
- 短時間レ-ザ照射によるイオン注入GaAs層の結晶性回復:注入量及びド-ズレ-ト依存性
- レーザー生成EUV光によるシリカガラスのアブレーション
- 赤外レーザーと近接場光を組み合わせたシリカガラスの微細加工
- レーザープラズマ軟X線アブレーションによる微細加工
- ナノ加工を目指したレーザプラズマ軟X線によるシリカガラスの非熱的アブレーションプロセスの探索
- レーザ生成プラズマEUV光による透明材料の直接加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーション過程
- レーザプラズマ軟X線による透明材料の微細加工法の探索
- レーザープラズマ軟X線による透明材料のマイクロ・ナノ加工と加工プロセス
- CO_2レーザー生成プラズマEUV光を用いた透明材料の加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーションとそのメカニズムの検討
- レーザプラズマ軟X線による無機透明材料のアブレーション加工
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスの極微細加工
- レーザープラズマ軟X線によるガス中での無機透明材料のアブレーション
- レーザープラズマ軟X線による石英ガラスのナノ加工
- レーザー光と固体との相互作用
- レーザアブレーション法による可視発光Siナノ微粒子の生成ダイナミックスと表面修飾
- レーザー光を利用した物質科学
- 2. アブレーションプラズマを用いた材料開発 (アブレーションプラズマのプロセス応用)
- シリコンナノ微粒子の生成の動的機構と可視発光
- 22aPS-70 スピネル型Mn酸化物薄膜の赤外及びラマン散乱
- Laser Original レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーションメカニズム
- Laser Review XUV〜X線による材料加工 (「レーザーによるXUV〜X線の発生とその応用」特集号)
- レーザーとナノ物性 : レーザーアブレーションで創製したSiナノ構造の物性
- 1p-T-2 結晶シリコン中の水素分子の検出とその挙動
- 水素原子処理シリコン結晶中の水素分子
- 励起ナノプロセッシングの展望
- 19aXA-7 レーザープロセスによるSiナノ構造体の創製と不純物ドーピング(領域10,領域9合同シンポジウム ナノ微粒子の構造及び電子状態の制御とその機能性の展開,領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 20pTG-6 レーザーアニールによるシリコン酸化膜中でのシリコンナノ結晶ドット形成過程(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- アモルファスGaAsのレ-ザ-固相エピタキシャル成長
- レーザープラズマ軟X線吸収分光を用いたアブレーション粒子の時間分解測定
- レーザーアブレーションの動的機構とナノクラスター生成
- 「レーザーアブレーションによる機能性ナノ微粒子の創製」解説小特集号によせて
- レーザーアブレションによるSiナノ微粒子形成の物理機構
- 可視発光シリコンナノ微粒子 -レーザーアブレーション-
- レーザーアブレーション法による可視発光a-Si/SiO_2およびSiナノクラスター/SiO_2積層構造の製作
- 結晶シリコン中の水素分子と水素複合体中心
- Visible Light Emission from SiO_x Films Synthesized by Laser Ablation
- Light Emission from Nanometer-Sized Silicon Particles Fabricated by the Laser Ablation Method
- レーザーアブレーション法による可視発光シリコン超微粒子の作成
- レ-ザ-アブレ-ション法による可視発光シリコン超微粒子の作成
- 半導体中不純物の準安定性/双安定性
- 半導体研究へのレ-ザ-プラズマX線の応用 (X線顕微鏡特集号)
- パルスレ-ザ-照射による固体Siの高速相変化
- 半導体のパルス・レーザー・アニール機構(VI. 半導体の格子緩和,強結合電子・格子系の動的物性,科研費研究会報告)
- レ-ザ-・アニ-ルによる非平衡・超高不純物濃度のSi:Te,Si:Zn系作成--非平衡・超高不純物濃度のSi:Te系作成
- イオン注入Siのパルス・レ-ザ-・アニ-ル--注入不純物とスピン密度依存性
- レ-ザ-・固体相互作用とレ-ザ-・プロセッシング会議報告
- 29pYC-9 水素添加CXシリコンの電子照射誘起点欠陥-不純物複合体
- イオンビ-ムプロセッシングの基礎過程--非平衡状態と動的過程のレ-ザ-照射による研究 (ビ-ムとプラズマの化学)
- 31aYG-10 p 型シリコン結晶の電子照射誘起点欠陥による光吸収
- 30pYG-5 水素を用いたシリコン結晶中の欠陥の検出と原子空孔形成エネルギーの決定
- 水素を利用したシリコン結晶中のワトキンスの置換反応の研究 (放射線とイオンビームによる物質構造の研究と改質・合成)
- 17pTG-8 水素ガス中加熱急冷法によるシリコン中の原子空孔形成エネルギーの研究
- 24aY-1 シリコン中の水素による光吸収スペクトルの温度依存性
- 31a-ZA-6 シリコン中の水素・アクセプター対による光吸収
- レーザーアブレーション法により生成したSiナノ細線 : 酸化による細線径および応力の制御と不純物ドーピング
- レーザープラズマ軟X線によるシリカガラスのアブレーションメカニズム
- XUV-X線による材料加工
- 国際会議報告 LPM2011会議報告
- 高パワー密度狭帯域軟X線加工装置の開発とシリコーンゴムの微細加工
- シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 405 N-DLC/DLC多層膜の細胞親和性評価(OS5-(2)オーガナイズドセッション《ライフサポートにおける工学技術》)
- 404 磁性蛍光シリコンナノ粒子の光学特性 : サイズ依存性(OS5-(2)オーガナイズドセッション《ライフサポートにおける工学技術》)
- シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動