シリコンナノワイヤへの不純物ドーピングと不純物の挙動 : 熱酸化過程での偏析挙動
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概要
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- 2012-06-14
著者
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村上 浩一
筑波大学
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石田 慎哉
筑波大学
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滝口 亮
筑波大学
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横野 茂樹
筑波大学
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関口 隆史
(独) 物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
-
深田 直樹
(独) 物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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