堀池 靖浩 | 極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)
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概要
関連著者
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堀池 靖浩
(株)東芝
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堀池 靖浩
東大院工
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堀池 靖浩
東芝超lsi研:現広大工
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堀池 靖浩
東洋大学工学部電気電子工学科
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堀池 靖浩
極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)
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堀池 靖浩
広島大学工学部第二類 (電気系)
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堀池 靖浩
東大院工学系研究科
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堀池 靖浩
物質・材料研究機構 情報通信材料研究領域
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堀池 靖浩
物質・材料研究機構 生体材料研究センター
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堀池 靖浩
東京大
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堀池 靖浩
東京大学大学院工学系研究科
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柳澤 道彦
スピードファム
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飯田 進也
スピードファム
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岡野 晴雄
(株)東芝
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堀池 靖浩
東京大学大学院工学研究科
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市野瀬 英喜
東京大学工学系研究科
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市野瀬 英喜
東京大学生産技術研究所
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堀池 靖浩
東洋大学工学部
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堀池 靖浩
物質・材料研究機構
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坂上 建郎
東京芝浦電気株式会社総合研究所
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的野 正義
東京芝浦電気株式会社総合研究所
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岩沢 岑男
東京芝浦電気株式会社総合研究所
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葛巻 徹
東京大学工学系研究科
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葛巻 徹
東京大学大学院工学系研究科
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田中 誓
スピードファム
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鶴岡 和之
スピードファム
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奥谷 忠義
スピードファム(株)
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堀池 靖浩
独立行政法人物質・材料研究機構
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岩沢 岑男
東京芝浦電気(株)総合研究所
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堀池 靖浩
東京芝浦電気(株)総合研究所
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松島 克雄
東京芝浦電気(株)総合研究所
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堀池 靖浩
広島大学工学部
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坂上 建郎
東芝総研
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的野 正義
東芝
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岡野 光夫
東京女子医科大学先端生命医科学研究所
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阪東 寛
産総研
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川田 肇
高エネルギー加速器研究機構・物質構造科学研究所
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岡野 光夫
東京医科歯科大学 歯周病学講座
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村上 寛
産総研
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阪東 寛
電総研
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藤井 保彦
筑波大物質工
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浜谷 望
筑波大物質工
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杉原 和佳
(株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所
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黒田 大介
鈴鹿工業高等専門学校材料工学科
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黒田 大介
物質・材料研究機構生体材料研究センター
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村上 寛
電子技術総合研究所
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川田 肇
筑波大物質工
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梶村 皓二
電総研
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坂本 邦博
電総研
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三木 一司
電総研
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市野瀬 英喜
東京大学大学院新領域創成科学研究科
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酒井 明
京都大学工学部付属メゾ材料研究センター
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長崎 幸夫
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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三木 一司
電子技術総合研究所
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吉木 宏之
鶴岡工業高等専門学校電気電子工学科
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市野瀬 英喜
東京大学大学院工学系研究科
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浜谷 望
お茶大人間文化
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長崎 幸夫
東京理科大学 基礎工学部
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村上 寛
電総研
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徳本 洋志
電総研
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小野 雅敏
電総研
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小野 雅敏
電総研極限技術部
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岡野 真
電子技術総合研究所
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小野 雅敏
電子技術総合研究所
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梶村 皓二
筑波大物質工:電総研
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小野 雅敏
電子技術総合研究所極限技術部
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赤間 善昭
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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岡野 真
電総研
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酒井 明
東芝超LSI研
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杉原 和佳
東芝超LSI研
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赤間 善昭
東芝超LSI研
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脇山 茂
セイコー電子工業
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杉原 和佳
(株)東芝
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大塚 英典
物材機構 生材セ
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葛巻 徹
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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葛巻 徹
東大院工学系研究科
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市野瀬 英喜
東大院新領域創成科学研究科
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笹木 俊哉
筑波大物質工
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有門 経敏
東芝超LSI研
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永井 秀雄
東芝総研
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片岡 一則
東京大学大学院工学研究科
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吉木 宏之
Tsuruoka National College Of Technology
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岡野 晴雄
(株)東芝ULSI研究所
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長崎 幸夫
東京理科大学基礎工学部
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大塚 英典
産総研界面ナノセンター
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片岡 一則
東大院工
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檜原 高明
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション
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黒田 秀治
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション
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藤原 昌樹
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション
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藤原 昌樹
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション:(株)神戸工業試験場
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有門 経敏
東芝ulsi研
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庄司 裕之
鶴岡工業高等専門学校電気工学科
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檜原 高明
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション:(株)神戸工業試験場
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岡野 光夫
東京女子医大
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脇山 茂
セイコー電子工業(株)科学機器事業部技術ー部技術 2g
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黒田 秀治
物質・材料研究機構 材料創製支援ステーション:(株)神戸工業試験場
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黒田 大介
鈴鹿工業高等専門学校
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大塚 英典
東京理大
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吉木 宏之
鶴岡工業高等専門学校 総合科学科
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岡野 光夫
東京女子医・先端生命
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吉木 宏之
鶴岡工業高等専門学校
著作論文
- 27a-P-7 UHV-STMによるSi清浄表面の観察
- カーボンナノチューブ・C_で作製した複合冷陰極の電界電子放出特性
- カーボンナノチューブの欠陥構造とその電子物性
- 3a-TA-11 超高分解能X線非弾性散乱 II. : 結晶ベンダー
- 409 数値制御局所ドライエッチングによる Si ウェーハ平坦化
- SF_6ダウンストリームプラズマを利用した数値制御局所ドライエッチング(NC-LDE)の加工特性
- 数値制御ドライ平坦化におけるナノトポグラフィー
- Fラジカルを利用したシリコンウェーハドライ平坦化装置の開発
- SF_6プラズマによるシリコンウェーハの超精密加工
- 1122 Cell-Based Biosensor (CBB) を目指した肝スフェロイドの規則的配列構造(肝スフェロイド・マイクロアレイ)の構築
- 無痛針用Niフリーステンレス鋼細管の機械的特性(第1回論文特集号)
- 紫外線励起シリコンドライエッチング
- SSDM2000国際会議報告
- EUVリソグラフィ開発の技術戦略
- 応物屋にとりバイオ研究へのハードルは高くない
- ビーム誘起シリコンLSIプロセス
- ULSIエッチング - 新しい化学反応の宝庫 -
- 超LSIとプラズマ,ビ-ムプロセス (ビ-ムとプラズマの化学)
- 反応性ドライエッチングと表面反応化学(表面と化学反応)
- デバイスプロセス (プラズマとその応用) -- (プラズマの応用)
- 各種ドライエッチング装置と加工特性 : 高速反応性イオンエッチング(半導体素子 : 材料とプロセス技術)
- LSI製造におけるドライエッチング技術の動向
- 半導体用エッチング技術--ドライエッチング技術を中心として (先端技術における表面処理)
- 2-9 CCDアナログ遅延線の特性評価
- 3-9 CCDによるビデオ信号遅延線
- ケミカルドライプロセス技術
- JJAPだより 国際学術誌としてのJJAP:応用物理学会会員への協力と支援のお願い
- 超LSIプロセスと表面処理技術-後-
- 超LSIプロセスと表面処理技術-前-
- ポリマーチューブ内壁の大気圧プラズマ処理 : ポリ四フッ化エチレンチューブでの結果
- LSI製造へのドライエッチング技術 (ドライな表面処理)
- テクノロマン・インタビュー 極微量の血液で健康診断「ヘルスケアチップ」--堀池靖浩氏・東京大学大学院工学系研究科材料学専攻教授
- ULSI新機能材料エッチングの現状と展望
- キャピラリ法によるコンタクト孔底の観察 (特集:微細構造内の分析・観察技術)
- 半導体プラズマプロセスにおける真空環境管理〔含 英文〕
- ナノバイオ若手育成に熱い坩堝の共用施設を全国に展開を