小野 雅敏 | 電子技術総合研究所極限技術部
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概要
関連著者
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小野 雅敏
電子技術総合研究所極限技術部
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小野 雅敏
電子技術総合研究所
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小野 雅敏
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小野 雅敏
電総研極限技術部
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筑波大物質工:電総研
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水谷 亘
JRCAT-NAIR
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梶村 皓二
電総研
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水谷 亘
電総研
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徳本 洋志
電総研
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阪東 寛
産総研
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繁野 雅次
セイコー電子工業(株)
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繁野 雅次
セイコー電子工業株式会社
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村上 寛
産総研
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村上 寛
電子技術総合研究所
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岡野 真
電子技術総合研究所
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岡野 真
電総研
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繁野 雅次
セイコー電子工業
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阪東 寛
電総研
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清水 肇
電総研
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梶村 皓二
電子技術総合研究所
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村上 寛
電総研
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徳本 洋志
電子技術総合研究所
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水谷 亘
電子技術総合研究所
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岡山 重夫
電子技術総合研究所
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岡山 重夫
工業技術院電子技術総合研究所
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坂井 文樹
セイコー電子工業(株)
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脇山 茂
セイコー電子工業
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脇山 茂
セイコー電子工業(株)科学機器事業部技術ー部技術 2g
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阪東 寛
電子技術総合研究所
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清水 肇
電子技術総合研究所
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井上 明
セイコーインスツル(株)
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井上 明
セイコー電子工業(株)
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徳本 洋志
Jrcat-nair
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山崎 修一
新日鐵第一技研
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阪東 寛
産業技術総合研
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国分 清秀
電子技術総合研究所
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井上 明
セイコー電子工業
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坂井 文樹
セイコー電子工業
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三木 一司
電子技術総合研究所
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杉野谷 充
セイコー電子工業(株)
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大海 学
セイコー電子工業(株)
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中川 善嗣
東レリサーチ
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渡辺 和俊
セイコー電子工業
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岡山 重夫
電総研
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山田 真
日本鋼管技術研究所
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大海 学
セイコー電子工業
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田中 淳一
日本鋼管技術研究所
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中川 善嗣
東レリサーチセンター
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中川 善嗣
(株)東レリサーチセンター 表面科学研究部
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小野 雅敏
工業技術院電子技術総合研究所極限技術部
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高橋 隆
東北大院理
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池上 敬一
産総研物質プロセス
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吉田 博
東北大理
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杉原 和佳
(株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所
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渡辺 真二
小坂研究所
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藤浪 真紀
新日鐵第一技研
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吉田 博
東北大院理
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坂本 邦博
電総研
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田中 將元
新日鉄先端研
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遠藤 和弘
電総研
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三木 一司
電総研
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吉岡 亨
早大・人間科学
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酒井 明
京都大学工学部付属メゾ材料研究センター
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伊藤 悦朗
北海道大学 理研究
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堀池 靖浩
(株)東芝
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吉岡 亨
早大人間科学
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伊藤 悦朗
早大人間総合研究セ
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濱 清
早大人間科学
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水谷 亘
電総研極限技術部
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清水 肇
電総研極限技術部
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小川 健一
セイコー電子工業
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杉 道夫
桐蔭横浜大工
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斉藤 和裕
電子技術総合研究所超分子部
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池上 敬一
電総研
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杉 道夫
電総研
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斉藤 和裕
電総研
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本間 昭彦
セイコー電子工業
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田中 将元
新日銭第一技研
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中静 恒夫
新日銭第一技研
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森田 直威
東レリサーチ
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山崎 修一
新日銭第一技研
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堀池 靖浩
東大院工
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堀池 靖浩
東芝超lsi研:現広大工
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脇山 茂
セイコ・電子工業
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宮田 千加良
セイコ・電子工業
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繁野 雅次
セイコ・電子工業
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本間 昭彦
セイコ・電子工業
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渡辺 和俊
セイコ・電子工業
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坂井 文樹
セイコ・電子工業
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小林 好行
小坂研究所
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中川 春樹
小坂研究所
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松本 文雄
小坂研究所
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赤間 善昭
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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北島 周
セイコー電子工業
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田中 將元
新日鐵第一技研
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田中 将元
新日鐵第一技研
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中靜 恒夫
新日鐵第一技研
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酒井 明
東芝超LSI研
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杉原 和佳
東芝超LSI研
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赤間 善昭
東芝超LSI研
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板東 寛
電子技術総合研究所
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杉原 和佳
(株)東芝
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新倉 正和
Nkk
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小野 祐一
電総研
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国分 清秀
電総研
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戸田 義継
産業技術総合研究所
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新倉 正和
日本鋼管技術研究所
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高橋 隆
東北大 大学院理学研究科
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戸田 義継
電総研
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平田 正鉱
電子技術総合研究所
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吉田 博
東北大 理
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平田 正紘
電総研
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堀池 靖浩
東洋大学工学部電気電子工学科
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堀池 靖浩
極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)
著作論文
- 3a-W-9 リボソーム膜レプリカ微細構造のSTM観察像
- 3a-B4-10 有機物質のSTM測定(III)
- 3a-B4-2 トンネル顕微鏡用探針
- 3a-B4-9 STM/STSによる4Hb-TaS2とGICの電子状態解析
- 3a-B4-5 UHV-STMによるSi表面の観察(III)
- C-11 走査型トンネル顕微鏡用圧電セラミックス微動機構(圧電材料・振動子)
- 24a-PS-22 有機物質のSTM測定(VII)
- 2a-T-9 有機物質のSTM測定 (IV)
- 5a-ZA-12 Bi_2Sr_2CaCu_2O_8におけるBiO面のSTM/TS測定
- STM開発の展望(STM開発の現状と展望)
- 27a-P-10 有機物質のSTM測定(1)
- 27a-P-8 "4Hb-TaS_2のCDW'SにおけるSTM像の電圧依存性"
- 27a-P-7 UHV-STMによるSi清浄表面の観察
- 走査型トンネル顕微鏡の探針微動機構(固体アクチュエータ)
- 28a-D-4 STMによる2Ha-NbSe_2の原子像観察
- 走査型トンネル顕微鏡による原子像と電子状態
- 28a-D-3 原子像観察のためのSTM装置
- 低速希ガスイオンによる銅ニッケル合金の表面損傷 (極限材料の照射損傷特集)
- オ-ジェ電子分光 (スペクトロスコピ-特集号)
- 277 粒界偏析 P 量におよぼす Ni, Mo の影響 : Auger 分析による焼戻脆化現象の考察 II(靱性・破壊, 性質, 日本鉄鋼協会第 88 回(秋季)講演大会)
- 290 粒界偏析 P 量と焼戻脆化度 : Auger 分析による焼戻脆化現象の考察 I(焼戻脆性・高張力鋼, 性質, 日本鉄鋼協会 第 87 回(春季)講演大会)
- 走査型トンネル顕微鏡について
- 超高真空技術の現状について (フォーラム「超高真空装置に関する技術の現状と将来」)
- 真空を測る : 真空をつくって,測る
- STM 開発の最前線をたずねて(精密工学の最前線)
- 5a-TA-7 水晶振動子共振周波数の圧力依存性
- 3p-KB-5 水晶摩擦真空計と気体粘性 : 粘性率測定への応用
- 水晶振動子を用いた小型真空センサ-
- 走査型トンネル顕微鏡と関連技術
- SPMによる極微細計測の展望
- STMとAFMの現状と動向
- 真空技術の極限(4.純度)(極限へのアプローチ)
- 4.3.1 宇宙工場(4. 未来はどうなる)(4.3 新分野はまねく)