舟窪 浩 | 東京工業大学大学院総合理工学研究科
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概要
関連著者
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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舟窪 浩
東京工大 工
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船窪 浩
東京工業大学工学部無機材料工学科
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水谷 惟恭
東京工業大学
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篠崎 和夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
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篠崎 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科
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Funakubo H
Dep. Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Inst. Of Technol.
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舟窪 浩
東工大院総合理工学研究科
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舟窪 浩
東京工業大学総合理工学科学研究所
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徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所
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徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所:東北大学電気通信研究所it-21センター
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山田 智明
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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木枝 暢夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
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木枝 暢夫
東京工業大学工学部 無機材料工学科
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Funakubo H
Tokyo Inst. Technol. Yokohama Jpn
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Funakubo Hiroshi
Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduated School Of Science And
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渡辺 隆之
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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中山 誠
東京工業大学精密工学研究所
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高橋 健治
東京工業大学総合理工学研究科
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石河 睦生
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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小枝 暢夫
湘南工科大学材料工学科
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黒澤 実
東京工業大学
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森田 剛
理研
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加藤 誠軌
東京工業大学工学部無機材料工学科
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森田 剛
東京大学大学院新領域創成科学研究科
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黒澤 実
東工大総理工
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舟窪 浩
東工大総理工
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安井 伸太郎
東工大
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黒澤 実
東大・工
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徳光 永輔
東京工業大学 精密工学研究所
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徳光 永輔
東北大学電気通信研究所
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加藤 誠軌
東京工業大学
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今下 勝博
東京工業大学工学部無機材料工学科
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森田 剛
東京大学
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徳光 永輔
東京工業大学
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森田 剛
東大
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今下 勝博
東京工業大学工学部無機材料工学科:(株)キリンビール(株)包装開発部
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石原 宏
東京工業大学
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野口 祐二
東大先端研
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宮山 勝
東大先端研
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桜井 修
東京工業大学工学部無機材料工学科
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石河 睦生
東京工業大学
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長田 実
物質・材料研究機構 ナノスケール物質センター
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石河 睦生
東工大総理工
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榮西 弘
東工大総理工
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長谷川 智仁
東工大総理工
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森田 剛
東大新領域
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山田 智明
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
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長田 実
科学技術振興事業団 さきがけ研究21
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斎藤 啓介
日本フィリップス アプリケーションラボラトリー
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日野 史郎
東京工業大学精密工学研究所
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野口 祐二
東京大学先端科学技術研究センター
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黒澤 実
東京工業大学総合理工学研究科
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石原 宏
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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日置 毅
東京工業大学工学部無機材料工学科
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大津 雅人
東京工業大学工学部無機材料工学科
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桜井 修
東京工業大学大学院材料工学専攻
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小林 幹雄
東京工業大学工学部無機材料工学科
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榮西 弘
東工大
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徳光 永輔
東北大学 電気通信研究所
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神保 武人
東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
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佐野 春行
東京工業大学 フロンティア創造共同研究センター
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額賀 紀全
東京工業大学総合理工学研究科
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三矢 昌俊
東京工業大学総合理工学研究科
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徳光 永輔
東北大学 It-21 センター
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吉本 護
東京工業大学
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山田 智明
東京工業大学大学院博士課程
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長谷川 智仁
東京工業大学総合理工学研究科
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黒澤 実
東京工業大学 総合理工学研究科
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小林 幹雄
東京工業大学工学部 無機材料工学科
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寺山 清志
富山大学大学院理工学研究部(工学)
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宮山 勝
東京大学生産技術研究所
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鈴木 利昌
太陽誘電
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内田 寛
国立小児病院小児衣料研究センター感染症研究部
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佐伯 淳
東京工業大学工学部無機材料工学科
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岡田 勲
上智大学理工学部
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鈴木 利昌
太陽誘電株式会社
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藤本 正之
太陽誘電株式会社
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水谷 惟恭
国立東京高等工業専門学校
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中村 吉伸
東大新領域
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中村 吉伸
東大院新領域
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三木 一司
物材機構
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坂田 修身
(財)高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
JASRI
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三木 一司
電総研
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西條 芳文
東北大医工
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矢澤 慶裕
東工大
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山田 智明
東工大
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宇津木 覚
東工大総理工
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藤澤 隆志
東工大総理工
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安井 伸太郎
東工大総理工
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山田 智明
東工大総理工
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黒澤 実
東工大・総理工
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近藤 正雄
富士通研
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酒井 朋裕
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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小嶌 隆志
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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野口 祐二
東京大学 生産技術研究所
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宮山 勝
東京大学 生産技術研究所
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飯島 高志
独立行政法人産業技術総合研究所 スマートストラクチャー研究センター
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松田 弘文
独立行政法人産業技術総合研究所 スマートストラクチャー研究センター
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内田 寛
上智大学 理工学部 化学科
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岡田 勲
上智大学 理工学部 化学科
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伊佐 寛
東京工業大学応用セラミックス研究所
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佐々木 敦
東京工業大学応用セラミックス研究所
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野口 祐二
東京大学生産技術研究所
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宮山 勝
東京大学 先端科学技術研究センター
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岡田 勲
上智大学理工学部化学科
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佐伯 淳
東京工業大学総合分析支援センターx線分析室
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吉本 護
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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篠崎 和夫
東京工大 大学院理工学研究科
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坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
Spring-8 Jasri
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
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藤本 正之
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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藤本 正之
太陽誘電(株)ワイヤレスインフォメーションネットワークグループ先端材料デバイス部
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鈴木 利昌
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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石川 勝之
東工大
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藤本 正之
太陽誘電 R&dセ
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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永井 正幸
武蔵工業大学
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車 声雷
TDK(株)材料・プロセス技術開発センター
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中村 将志
千葉大学大学院工学研究科
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中村 将志
Department of Applied Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering, Chiba University
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近藤 正雄
富士通株式会社
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坂田 修身
(財)高輝度光科学研究センター(jasri/spring-8)
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斎藤 啓介
ブルカーエイエックスエス株式会社アプリケーションラボラトリ
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黒澤 利行
ブルカーエイエックスエス株式会社
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植木 定雄
ブルカーエイエックスエス株式会社
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内田 寛
国立小児病院小児医療研究センター
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寺山 清志
富山大学工学部
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メヌー ニコラス
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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桑原 弥紀
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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木村 武
東京工業大学総合理工学研究科
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秋山 賢輔
東京工業大学総合理工学研究科
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舟窪 浩
東工大工
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車 声雷
東京工業大学工学部無機材料工学科
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赤井 孝夫
日本フィリップス株式会社
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近藤 正雄
東京工業大学工学部無機材料工学科
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松山 勝美
東京工業大学工学部無機材料工学科
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逸見 博
秩父セメント(株)FC本部
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中村 吉伸
東京大学工学部工業化学科
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松田 元秀
東京都立大学工学部工業化学科
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山本 浩貴
東京工業大学無機材料工学科
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門
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藤澤 隆志
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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石川 勝之
東京工業大学総合理工学研究科物質科学創造専攻
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車 声雷
住友金属鉱山
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
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舟窪 浩
東工大
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内田 寛
埼玉社会保険病院外科
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飯島 高志
産業技術総合研
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永井 正幸
武蔵工業大学工学部
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森田 剛
東京大学大学院
-
水谷 惟恭
東京工業大学工学部 無機材料工学科
-
佐々木 敦
東京工業大学
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舟窪 浩
東京工業大学工学部 無機材料工学科
-
加藤 誠軌
東京工業大学工学部 無機材料工学科
著作論文
- KNbO_3エピタキシャル膜の製膜と圧電特性の評価
- 2P5-1 VHF帯超音波イメージングを目的としたKNbO_3配向制御膜トランスデューサ(ポスターセッション)
- 1J1-3 水熱合成法によるKNbO_3エピタキシャル膜の作製と特性評価(超音波物性・材料・フォノン物理)
- サイトエンジニアリングコンセプトを用いたBi_4Ti_3O_12基薄膜特性の設計
- a,b軸配向エピタキシャルBi_4Ti_3O_12基薄膜の合成と特性評価
- X線逆格子イメージング法を用いた表界面ナノ構造評価
- 多次元検出器と高分解能X線回折装置を用いた薄膜材料解析
- 高密度強誘電体メモリ用のMOCVD合成Pb(Zr,Ti)O_3の高再現性作製のための(111)配向したSrRuO_3/Pt下部電極(非揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- ビスマス層状誘電体のナノレイヤー積層方向に見られる新規誘電特性
- 3J17 高品質β-FeSi_2 薄膜の成長機構とその特性評価
- 噴霧熱分解法による球状Pd単結晶粒子の合成プロセスにおける粒子内部構造の発達過程
- 半導性エピタキシャルBaTiO_3薄膜の合成とその電気的性質
- MOCVD法で(100)MgO基板上に合成したエピタキシャル成長PbTiO_3およびPZT皮膜内の残留ひずみ
- 水熱法により結晶化した単分散酸化チタン微粒子の形成性及び焼結性
- CVD法によるエピタキシャル成長PZT薄膜の析出条件
- (100)Pt/(100)MgO基板上へのPzT薄膜の合成とその性質
- 高速でエピタキシャル成長させたCVD Pb(Zr, Ti)O_3薄膜の特徴
- CVD法で合成した窒化鉄-窒化チタン薄膜の微構造
- 研究技術動向の一断面
- Bi_2O_3を拡散したBaTiO_3BLコンデンサの粒界構造
- CVD法によるTaN_x-TiN薄膜の合成
- CVD法による窒化ニオブ薄膜の合成(2. 気相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
- 巨大圧電性を目指したPb(Zr,Ti)O_3単結晶膜の作製
- MOCVD法によるBiFeO3基薄膜の合成と評価 (特集 マルチフェロイクス材料の作製と応用(1))
- ペロブスカイト構造酸化物の薄膜化技術の最新動向
- HfO_2のMOCVD成膜におけるH_20酸化剤の効果(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- C-11-6 交互供給 MOCVD 法によるゲート絶縁膜用 HfO_2 薄膜の作製と評価
- CVD法によるゲート絶縁膜用HfO_2薄膜の作製
- CVD法によるゲート絶縁膜用HfO_2薄膜の作製
- プラズマプロセスを用いた溶液気化MOCVD法によるSrBi_2Ta_2O_9薄膜の作製
- プラズマプロセスを用いた溶液気化MOCVD法によるSrBi_2Ta_2O_9薄膜の作製
- 強誘電体薄膜におけるサイトエンジニアリングコンセプト
- 高品質SrBi_2Ta_2O_9薄膜の低温合成と配向制御
- MOCVD法によるエピタキシャル成長SrBi_2Ta_2O_9薄膜の合成とその電気特性評価(化学的方法による機能性酸化物膜の合成)
- CVD法によるPb(Zr,Ti)O_3エピタキシャル薄膜の合成
- CVD法による窒化タンタル薄膜の合成とその析出機構