CVD法による窒化ニオブ薄膜の合成(2. 気相反応法)(<特集>新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
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概要
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- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1987-01-01
著者
-
水谷 惟恭
東京工業大学
-
加藤 誠軌
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
舟窪 浩
東京工大 工
-
舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
船窪 浩
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
木枝 暢夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
-
加藤 誠軌
東京工業大学
-
小枝 暢夫
湘南工科大学材料工学科
-
木枝 暢夫
東京工業大学工学部 無機材料工学科
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