CVD法で合成した窒化鉄-窒化チタン薄膜の微構造
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概要
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The microstructure of iron nitride-titanium nitride binary films prepared by CVD was investigated by electron microscopy in comparison with those of iron nitride and titanium nitride films. Their microstructures varied from that similar to that of iron nitride film to that of titanium nitride film depending on Ti/(Fe+Ti). These films were made up of columnar particles grown normal to the substrate in the upper region near the surface and finer particles in the lower region near the substrate. Two different composition regions with 0.6 μm in size existed in this lower region near the substrate. Two regions with different composition existed at the initial stage of the deposition.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1993-07-01
著者
-
水谷 惟恭
東京工業大学
-
篠崎 和夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
篠崎 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科
-
舟窪 浩
東京工大 工
-
舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
船窪 浩
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
木枝 暢夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
-
舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
-
小枝 暢夫
湘南工科大学材料工学科
-
木枝 暢夫
東京工業大学工学部 無機材料工学科
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