藤本 正之 | 太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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概要
関連著者
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藤本 正之
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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藤本 正之
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藤本 正之
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田中 順三
無機材質研究所
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西 湯二
太陽誘電株式会社
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Funakubo H
Dep. Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Inst. Of Technol.
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Funakubo Hiroshi
Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduated School Of Science And
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若林 博孝
太陽誘電(株)
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西 湯二
太陽誘電(株)
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関口 象一
太陽誘電(株)
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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舟窪 浩
東工大院総合理工学研究科
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佐藤 峰夫
新潟大学工学部化学システム工学科
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野口 祐二
東大先端研
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宮山 勝
東大先端研
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宮山 勝
東京大学生産技術研究所
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戸田 健司
新潟大院自然
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羽田 肇
National Institute for Materials Science
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羽田 肇
無機材質研究所
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小林 和義
太陽誘電株式会社
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鈴木 利昌
太陽誘電株式会社
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太田 謙一
太陽誘電株式会社
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関口 象一
太陽誘電株式会社
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小林 和義
太陽誘電(株)
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戸田 健司
新潟大学大学院自然科学研究科
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長田 実
物質・材料研究機構 ナノスケール物質センター
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舟窪 浩
東工大総理工
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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Funakubo H
Tokyo Inst. Technol. Yokohama Jpn
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吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
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渡辺 隆之
東京工業大学 大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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長田 実
科学技術振興事業団 さきがけ研究21
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伊佐 寛
東京工業大学応用セラミックス研究所
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佐々木 敦
東京工業大学応用セラミックス研究所
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野口 祐二
東京大学生産技術研究所
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斎藤 啓介
日本フィリップス アプリケーションラボラトリー
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野口 祐二
東京大学先端科学技術研究センター
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小林 和義
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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太田 謙一
太陽誘電(株)R&Dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークGr. 先端材料デバイス部
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森戸 健太郎
太陽誘電(株)
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石川 勝之
東工大
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秋田 千芳
日本油脂(株)
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江原 襄
シャープ中央研究所
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羽田 肇
九州大学大学院量子プロセス理工学:物質材料研究機構
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太田 謙一
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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重谷 寿士
太陽誘電
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杉村 渉
早大
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松井 良夫
NIRIM
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田中 順三
NIRIM
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成田 直人
太陽誘電(株)
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中澤 睦夫
太陽誘電(株)
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高橋 宏
太陽誘電(株)
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秋田 千芳
無機材質研究所
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長村 俊彦
ユニソク(株)
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藤本 正之
太陽誘電総合研究所
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松井 良夫
科学技術庁・無機材質研究所
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舟窪 浩
東工大工
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上田 周作
太陽誘電(株)
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亀尾 裕
新潟大学工学部化学システム工学科
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佐藤 峰夫
新潟大学工学部
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
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東京工業大学
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舟窪 浩
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関口 象一
太陽誘電
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佐藤 峰夫
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藤本 正之
太陽誘電 (株) 総合技術研究所
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佐々木 敦
東京工業大学
著作論文
- a,b軸配向エピタキシャルBi_4Ti_3O_12基薄膜の合成と特性評価
- 高周波セラミックスインテグレーション
- マイクロ波回路用高誘電率SrTiO_3薄膜キャパシターの作製技術(セラミックスインテグレーション)
- エピタキシャルSnO_2ルチル薄膜中の欠陥構造の透過型電子顕微鏡研究
- 高分解能透過型電子顕微鏡とコンピューターシミュレーションによる電子材料ペロブスカイトセラミックスの欠陥構造の解析
- エピタキシャルSrBi_2Ta_2O_9薄膜の界面構造
- 誘電体材料の電子顕微鏡による解析評価
- MBE法で作製したBaTiO_3薄膜の結晶構造と表面構造
- 積層セラミクスチップ部品とモジュールのレーザー穴開け
- マンガン亜鉛フェライトセラミックス粒界のオージェ電子分光(表面・界面・薄膜と分析化学)
- トンネル分光法によるSrTiO_3セラミックス表面の観察(酸化物系導電セラミックス)(導電性セラミックス)
- 超小型積層セラミックチップ部品と積層モジュールの開発
- 層状ペロブスカイトNa_2La_2Ti_3O_の構造解析とイオン伝導性
- AlNセラミックスの熱伝導率に対するCF_4ガス雰囲気中加熱処理の効果