小林 和義 | 太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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概要
関連著者
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小林 和義
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著作論文
- FeNiSiO_2/SiO_2高抵抗磁性薄膜装荷インダクタの作製
- 高周波磁性薄膜のCu-BCB2層インダクタへの応用
- CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜を用いた高周波薄膜インダクタ
- 磁性薄膜装荷型インダクタを用いた薄膜PAモジュールの試作
- (Co-Fe)-Al-O薄膜の化学状態と磁気特性
- 新しい磁性薄膜インダクターの高周波への応用(セラミックスインテグレーション)
- 1D16 Co-Fe 系ナノグラニュラー磁性薄膜の高周波磁気特性
- 移動体通信用パワーアンプへのマイクロ磁気デバイスの応用
- GHz帯域用CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜の磁気特性
- CoFeAlO薄膜のGHz帯域の磁気特性
- CoFeAlO薄膜を用いた高周波チョークコイル
- 高周波セラミックスインテグレーション
- FeNiSiO/SiO_2高抵抗積層グラニュラー膜の磁気特性
- マイクロ波・ミリ波セラミックスインテグレーション (特集 セラミックスインテグレーション)