小林 和義 | 太陽誘電株式会社
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概要
関連著者
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小林 和義
太陽誘電株式会社
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小林 和義
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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太陽誘電株式会社
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太陽誘電(株)ワイヤレスインフォメーションネットワークグループ先端材料デバイス部
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太陽誘電株式会社
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太陽誘電株式会社
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近藤 龍一
太陽誘電(株)
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太陽誘電
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藤本 正之
太陽誘電 (株) 総合技術研究所
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山崎 淳司
早稲田大学理工学部資源工学科
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田中 順三
無機材質研究所
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田中 順三
無機材研
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三橋 武文
無機材質研究所 第7研究グループ
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藤本 正之
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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太田 謙一
太陽誘電(株)R&Dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークGr. 先端材料デバイス部
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杉村 渉
早大
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杉村 渉
早稲田大学
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川田 幸広
太陽誘電
著作論文
- FeNiSiO_2/SiO_2高抵抗磁性薄膜装荷インダクタの作製
- 高周波磁性薄膜のCu-BCB2層インダクタへの応用
- CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜を用いた高周波薄膜インダクタ
- 磁性薄膜装荷型インダクタを用いた薄膜PAモジュールの試作
- (Co-Fe)-Al-O薄膜の化学状態と磁気特性
- 新しい磁性薄膜インダクターの高周波への応用(セラミックスインテグレーション)
- 1D16 Co-Fe 系ナノグラニュラー磁性薄膜の高周波磁気特性
- 移動体通信用パワーアンプへのマイクロ磁気デバイスの応用
- GHz帯域用CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜の磁気特性
- CoFeAlO薄膜のGHz帯域の磁気特性
- CoFeAlO薄膜を用いた高周波チョークコイル
- 高周波セラミックスインテグレーション
- FeNiSiO/SiO_2高抵抗積層グラニュラー膜の磁気特性
- 2-1F02 酸素ラジカル源を用いた MBE 酸化物薄膜の構造と物性
- 2-1F01 アナターゼ型 TiO_2 薄膜の作製と評価
- マイクロ波・ミリ波セラミックスインテグレーション (特集 セラミックスインテグレーション)