舟窪 浩 | 東工大総理工
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概要
関連著者
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舟窪 浩
東工大総理工
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黒澤 実
東京工業大学
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森田 剛
理研
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森田 剛
東京大学大学院新領域創成科学研究科
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黒澤 実
東工大総理工
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黒澤 実
東大・工
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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舟窪 浩
東工大工
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森田 剛
東京大学
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石河 睦生
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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森田 剛
東大
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舟窪 浩
東工大
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水谷 惟恭
東工大大学院理工学研究科
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鈴木 利昌
太陽誘電
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西 湯二
太陽誘電株式会社
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藤本 正之
太陽誘電株式会社
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石河 睦生
東工大総理工
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榮西 弘
東工大総理工
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長谷川 智仁
東工大総理工
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森田 剛
東大新領域
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安井 伸太郎
東工大
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篠崎 和夫
東工大
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舟窪 浩
東京工大 工
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山田 智明
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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黒澤 実
東京工業大学総合理工学研究科
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榮西 弘
東工大
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長谷川 智仁
東京工業大学総合理工学研究科
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黒澤 実
東京工業大学 総合理工学研究科
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浅井 吉蔵
電通大
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野口 祐二
東大先端研
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宮山 勝
東大先端研
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小林 義彦
電通大量子物質工
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小林 義彦
東京医大物理
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小林 義彦
東京医大医
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藤本 正之
太陽誘電(株)
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石河 睦生
東京工業大学
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西條 芳文
東北大医工
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矢澤 慶裕
東工大
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山田 智明
東工大
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宇津木 覚
東工大総理工
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藤澤 隆志
東工大総理工
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安井 伸太郎
東工大総理工
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山田 智明
東工大総理工
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黒澤 実
東工大・総理工
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Funakubo H
Dep. Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Inst. Of Technol.
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Funakubo Hiroshi
Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduated School Of Science And
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渡辺 隆之
東工大院物創
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秋山 賢輔
神奈川県産業技術総合研究所
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金子 徹也
電通大量子・物質工
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藤本 正之
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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藤本 正之
太陽誘電(株)ワイヤレスインフォメーションネットワークグループ先端材料デバイス部
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鈴木 利昌
太陽誘電(株)r&dセンター ワイヤレスインフォメーションネットワークgr. 先端材料デバイス部
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西 湯二
太陽誘電(株)
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石川 勝之
東工大
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藤本 正之
太陽誘電 R&dセ
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浅井 吉藏
電通大
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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小林 義彦
電通大工
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大津 雅人
東工大
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稲垣 良昭
東工大工
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鴨川 征史
電通大
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秋山 賢輔
神奈川産技センター
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額賀 紀全
東工大
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三矢 昌俊
東工大
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舟窪 浩
東工大院総合理工学研究科
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鴨川 征史
電通大量子・物質工学科
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森田 剛
東京大学大学院
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小林 義彦
電通大
著作論文
- KNbO_3エピタキシャル膜の製膜と圧電特性の評価
- 2P5-1 VHF帯超音波イメージングを目的としたKNbO_3配向制御膜トランスデューサ(ポスターセッション)
- 1J1-3 水熱合成法によるKNbO_3エピタキシャル膜の作製と特性評価(超音波物性・材料・フォノン物理)
- エピタキシャルSrBi_2Ta_2O_9薄膜の界面構造
- 2D01 MOCVD 法で合成した PZT 薄膜の電気的性質
- 3B09 CVD 法によるエピタキシャル BaTiO_3 及び SrTiO_3 薄膜の合成
- 18aPS-45 Fe_3Siの電子輸送現象(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 3F07 ランタノイド置換チタン酸ビスマス薄膜の MOCVD 合成と評価
- 3D05 ローカルエピタキシャル成長を利用した単配向 Bi 層状強誘電体薄膜の低温合成