近藤 正雄 | 富士通研
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概要
関連著者
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近藤 正雄
富士通研
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近藤 正雄
富士通株式会社
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栗原 和明
富士通研
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佐藤 桂輔
東大物性研
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浅井 吉蔵
電通大
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小林 義彦
電通大量子物質工
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小林 義彦
東京医大物理
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篠崎 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科
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浅井 吉藏
電通大
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佐藤 桂輔
富士通研
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小林 義彦
電通大工
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水谷 惟恭
東京工業大学
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篠崎 和夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
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岩田 正俊
電通大
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亀原 伸男
(株)富士通研究所
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塚田 峰春
(株)富士通研究所基盤技術研究所
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近藤 正雄
東京工業大学工学部無機材料工学科
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佐藤 桂輔
茨城高専:電通大
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小林 義彦
電通大
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阿部 浩二
電通大量子・物質工
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阿部 浩二
電気通信大学
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小林 義彦
東京医大医
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水谷 惟恭
国立東京高等工業専門学校
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脇谷 尚樹
東工大院
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篠崎 和夫
東工大院
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水谷 惟恭
東工大院
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山田 智明
東工大院
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舟窪 浩
東京工大 工
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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山田 智明
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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船窪 浩
東京工業大学工学部無機材料工学科
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亀原 伸男
(株)富士通研究所厚木研究所
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肥田 勝春
富士通研究所
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亀原 伸男
富士通研究所
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脇谷 尚樹
東工大院工
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水谷 惟恭
東工大院工
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亀原 伸男
(株)富士通研究所 材料・環境技術研究所
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山脇 秀樹
富士通株式会社
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塚田 峰春
富士通株式会社
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丸山 研二
富士通株式会社
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栗原 和明
富士通株式会社
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塩澤 正規
電通大
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丸山 研二
富士通研
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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塚田 峰春
(株)富士通研究所
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栗原 和明
(株)富士通研究所
-
塚田 峰春
富士通研
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朽網 道徳
富士通研
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近藤 正雄
(株)富士通研究所材料技術研究所無機・高分子材料研究部
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肥田 勝春
(株)富士通研究所材料技術研究所無機・高分子材料研究部
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塩澤 正規
電通大量子・物質工学科
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肥田 勝春
(株)富士通研究所基盤技術研究所
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大木 六郎
東京工業大学研究協力部研究協力課
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阿部 浩二
電通大
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近藤 正雄
(株)富士通研究所 環境・エネルギー研究センター
著作論文
- 2L04 Si 基板上における Pb(Mg_, Nb_)O_3 薄膜のエピタキシャル成長過程と誘電特性
- 次世代デバイスに向けたSi基板上のPZTエピタキシャル薄膜の特性(新型不揮発性メモリー)
- 27pPSB-4 La_Bi_xNi_Mn_O_3の磁性と誘電特性(27pPSB 領域3ポスターセッション(酸化物磁性,スピングラス・ランダム・アモルファス系,量子スピン系(一次元系,二次元系),量子スピン系(クラスターおよび一般),フラストレーション系,実験技術開発,磁性一般),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 水熱法により結晶化した単分散酸化チタン微粒子の形成性及び焼結性
- 1L18 PbNi_Nb_O_3-PbTiO_3-PbZrO_3 系セラミックスの圧電特性と電界誘起歪
- 3B05 PbNi_Nb_O_3-PbTiO_3-PbZrO_3 系圧電セラミックスの相変化挙動
- PbNi_Nb__3-PbTiO_3-PbZrO_3 セラミックスの相境界付近における圧電特性
- 27aPS-41 SrRuO_3薄膜の異常ホール効果(27aPS 領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 27aPS-43 BaRuO_3薄膜の構造と電子輸送現象(27aPS 領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 水熱結晶化した単分散酸化チタン微粒子の結晶化挙動とその徴構造