山脇 秀樹 | 富士通株式会社

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概要

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• 山脇 秀樹

  富士通株式会社

• 恵下 隆

  (株)富士通研究所fプロジェクト部

• 恵下 隆

  (株)富士通研究所

• 中村 亘

  富士通株式会社

• 中村 亘

  (株)富士通研究所 基盤技術研究所

• 山脇 秀樹

  (株)富士通研究所 基盤技術研究所

• 宮垣 真治

  (株)富士通研究所 基盤技術研究所

• 有本 由弘

  (株)富士通研究所 基盤技術研究所

• 有本 由弘

  (株)富士通研空所fプロジェクト部

• 宮垣 真治

  富士通研究所

• 中村 亘

  富士通

• 有本 由弘

  (株)富士通研究所

• 近藤 正雄

  富士通研

• 栗原 和明

  富士通研

• 近藤 正雄

  富士通株式会社

• 塚田 峰春

  富士通株式会社

• 丸山 研二

  富士通株式会社

• 栗原 和明

  富士通株式会社

• 塚田 峰春

  (株)富士通研究所基盤技術研究所

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著作論文

• 次世代デバイスに向けたSi基板上のPZTエピタキシャル薄膜の特性(新型不揮発性メモリー)
• SBTの電気的特性における下地電極の影響
• SBTの電気的特性における下地電極の影響

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