3B05 PbNi_<1/3>Nb_<2/3>O_3-PbTiO_3-PbZrO_3 系圧電セラミックスの相変化挙動

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本セラミックス協会の論文
• 1998-10-01

著者

• 近藤 正雄

  富士通研

• 栗原 和明

  富士通研

• 肥田 勝春

  富士通研究所

• 亀原 伸男

  富士通研究所

• 亀原 伸男

  (株)富士通研究所

• 塚田 峰春

  富士通研

• 朽網 道徳

  富士通研

関連論文

• 2L04 Si 基板上における Pb(Mg_, Nb_)O_3 薄膜のエピタキシャル成長過程と誘電特性
• 多層セラミック回路基板の寸法制御に及ぼす焼成収縮ミスマッチ(銅/セラミック)の影響
• 1C22 複合積層ガラスセラミック基板
• ガラス/アルミナ複合体の焼結過程 (誘電性セラミックス) -- (合成・キャラクタリ-ゼ-ション)
• ホウケイ酸ガラスの結晶化に及ぼすアルミナの添加効果(ガラス化・アモルファス化・結晶化)(ガラス・アモルファス材料及びその材料科学の進展)
• 低温焼成ガラス-セラミックス複合材料の結晶化
• 次世代デバイスに向けたSi基板上のPZTエピタキシャル薄膜の特性(新型不揮発性メモリー)
• 27pPSB-4 La_Bi_xNi_Mn_O_3の磁性と誘電特性(27pPSB 領域3ポスターセッション(酸化物磁性,スピングラス・ランダム・アモルファス系,量子スピン系(一次元系,二次元系),量子スピン系(クラスターおよび一般),フラストレーション系,実験技術開発,磁性一般),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 水熱法により結晶化した単分散酸化チタン微粒子の形成性及び焼結性
• 強誘電体メモリーの高信頼化技術の開発
• 1L18 PbNi_Nb_O_3-PbTiO_3-PbZrO_3 系セラミックスの圧電特性と電界誘起歪
• 3B05 PbNi_Nb_O_3-PbTiO_3-PbZrO_3 系圧電セラミックスの相変化挙動
• スパッター法によるチタン酸ジルコン酸バリウム薄膜の作製と評価
• PbNi_Nb__3-PbTiO_3-PbZrO_3 セラミックスの相境界付近における圧電特性
• 湿式成形体の乾燥
• 25a-PS-66 R_Ce_xCuO_4(R=Pr, Nd, Sm, Eu, Gd)の結晶構造と静電ポテンシャル
• 31p-PS-117 Ca_Sr_CuO_2とT'相Nd_MxCuO_4 (M=Sm, La, Pr)のラマン散乱
• 31p-PS-100 Bi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の磁気緩和
• 低温焼成ガラス/セラミック複合基板 (コンピュ-タ-関連機器における塑性と加工)
• 5p-PS-100 酸化物超伝導薄膜の作製と物性評価
• Ba-Y-Cu-O系のSr置換効果
• LSIを液体に直接浸漬してコンピュ-タを冷やす
• この人にきく
• 日米電子材料連合学会報告 - Joint Fall Meeting of AcerS -
• YBCO-金属系焼結体における微小重力下粉末混合の効果
• 12p-PSA-35 R_2CuO_4(R=Pr, Nd, Sm, Eu, Gd)の格子振動
• 28p-APS-23 Bi系超伝導薄膜の高周波応答
• 1C23 W-AIN 同時焼成における焼成ガス圧の影響
• 27aPS-41 SrRuO_3薄膜の異常ホール効果(27aPS 領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 27aPS-43 BaRuO_3薄膜の構造と電子輸送現象(27aPS 領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 強誘電体薄膜のメモリー応用
• 水熱結晶化した単分散酸化チタン微粒子の結晶化挙動とその徴構造
• 1p-PS-105 Y-Ba-Cu-O系のSr置換効果(低温(酸化物超伝導体))

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク