山田 智明 | 東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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概要
関連著者
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山田 智明
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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山田 智明
東京工業大学大学院博士課程
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水谷 惟恭
国立東京高等工業専門学校
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篠崎 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科
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脇谷 尚樹
東工大院工
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水谷 惟恭
東京工業大学
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脇谷 尚樹
東京工業大学工学部無機材料工学科
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篠崎 和夫
東工大院
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山田 智明
東工大院
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脇谷 尚樹
東京工大 大学院理工学研究科
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篠崎 和夫
東京工大 大学院理工学研究科
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篠崎 和夫
東工大院工
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水谷 惟恭
東工大院工
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Wakiya Naoki
Graduate School Of Sci. And Technol. Shizuoka Univ.
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Wakiya Naoki
Department Of Materials Science And Chemical Engineering Shizuoka University
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篠崎 和夫
東京工業大学工学部無機材料工学科
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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山田 智明
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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石垣 寛和
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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石垣 寛和
東工大院
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水谷 惟恭
東工大大学院理工学研究科
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石河 睦生
東京工業大学
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山田 智明
東工大
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邱 徳威
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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篠崎 和夫
東工大
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脇谷 尚樹
東工大院
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水谷 惟恭
東工大院
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近藤 正雄
富士通研
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栗原 和明
富士通研
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篠[ザキ] 和夫
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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藤澤 隆志
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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邱 徳威
東京工業大学大学院博士課程
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石河 睦生
東京工業大学大学院総合理工学研究科
著作論文
- 2L04 Si 基板上における Pb(Mg_, Nb_)O_3 薄膜のエピタキシャル成長過程と誘電特性
- PLD法によるSiO_2/Si(001)基板上エピタキシャルYSZ薄膜の室温合成(セラミックスインテグレーション)
- 1D25 第一原子層制御を用いたヘテロエピタキシャル SrTiO_3/CeO_2(001) 薄膜の界面特性とその安定性
- 1D22 Si(001) 基板上低温化エピタキシャル YSZ 薄膜の合成の実現化
- Si(001)基板上へ成膜したイットリア安定化ジルコニア(YSZ)薄膜の初期のエピタキシャル成長過程へのSiO_2層厚さの影響
- パルスレーザー蒸着法によるSi(001)上へのYSZ薄膜のヘテロエピタキシャル成長に及ぼす酸素分圧とレーザーエネルギー密度の影響
- 1D11 PLD 法による Pb(Mg_Nb_)O_3 (PMN) 薄膜の強誘電特性の膜厚依存性
- 巨大圧電性を目指したPb(Zr,Ti)O_3単結晶膜の作製
- ペロブスカイト構造酸化物の薄膜化技術の最新動向
- 東京工業大学 水谷・篠崎研究室