吉本 護 | 東京工業大学大学院総合理工学研究科
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概要
関連著者
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吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
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吉本 護
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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吉本 護
東京工業大学
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田川 精一
阪大産研
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三木 一司
物材機構
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関 修平
大阪大学産業科学研究所
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坂田 修身
(財)高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
JASRI
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三木 一司
電総研
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Funakubo H
Dep. Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Inst. Of Technol.
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舟窪 浩
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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黒田 真一
群馬大学大学院
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黒田 真一
群馬大学工学部 材料工学科
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田川 精一
大阪大学産業科学研究所
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竹内 敦子
並木精密宝石(株)
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古滝 敏郎
並木精密宝石(株)
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小山 浩司
並木精密宝石(株)
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砂川 和彦
並木精密宝石(株)
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矢口 洋一
並木精密宝石(株)
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松井 良憲
大阪大学産業科学研究所
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村杉 政一
大阪大学産業科学研究所
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原 和香奈
東京工業大学応用セラミックス研究所
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平出 孝夫
栃木県県南工業指導所
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小野 章夫
栃木県県南工業指導所
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伏木 徹
栃木県県南工業指導所
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竹澤 信隆
栃木県県南工業指導所
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山田 秀雄
栃木県県南工業指導所
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菱谷 佳子
東京工業大学応用セラミックス研究所
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丸田 秀昭
東京工業大学応用セラミックス研究所
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佐々木 権治
東京工業大学応用セラミックス研究所
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坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
Spring-8 Jasri
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
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吉本 護
東工大・応用セラミックス研究所
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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中村 将志
千葉大学大学院工学研究科
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中村 将志
Department of Applied Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering, Chiba University
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舟窪 浩
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
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坂田 修身
(財)高輝度光科学研究センター(jasri/spring-8)
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Tagawa S
The Inst. Of Scientific And Industrial Res. Osaka Univ.
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門
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山田 秀雄
栃木県県南工指
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舟窪 浩
東工大院総合理工学研究科
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
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Tagawa S
Osaka Univ. Osaka Jpn
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平出 孝夫
栃木県産業技術センター
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竹澤 信隆
栃木県産業技術センター
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原 和香奈
東京工業大学
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佐々木 敦
東京工業大学
著作論文
- 集束イオンビーム加工によるサファイヤ基板上のナノステップ制御
- チオフェンを原料とする硫黄ドープアモルファス炭素薄膜のCVD合成
- 黒鉛からサファイア上にダイヤモンド薄膜を創る
- 純酸素中でのグラファイトレーザーアブレーションによるダイヤモンド薄膜の水素フリー気相合成
- 酸化物ネオエレクトロニクスをめざした表面・界面の原子レベル制御の新展開
- 純酸素中でのグラファイトレーザーアブレーションによるダイヤモンド薄膜合成
- X線逆格子イメージング法を用いた表界面ナノ構造評価
- レーザMBE法による酸化物単結晶薄膜の室温合成