Preparation of Diamond Mold Using Electron Beam Lithography for Application to Nanoimprint Lithography
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-12-30
著者
-
TANIGUCHI Jun
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science
-
Hiroshima H
National Inst. Of Advanced Industrial Sci. And Technol. (aist) Ibaraki Jpn
-
宮本 岩男
東京理科大学基礎工学部
-
KOMURO Masanori
Electrotechnical Laboratory
-
HIROSHIMA Hiroshi
Electrotechnical Laboratory
-
Taniguchi Jun
Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science
-
Komuro M
Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc
-
MIYAMOTO Iwao
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science
-
Miyamoto Iwao
Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science
-
TOKANO Yuji
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science
-
Tokano Yuji
Department Of Applied Electronics Tokyo Science University
-
KOBAYASHI Kazuhiko
CRESTEC
-
MIYAZAKI Takeshi
CRESTEC
-
OHYI Hideyuki
CRESTEC
-
Taniguchi J
Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science
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