単結晶ダイヤモンドのリアクティブイオンビーム加工-ナフテン酸金属塩をマスクとした微細パターンの形成-
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概要
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- 1999-09-01
著者
-
宮本 岩男
東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻
-
谷口 淳
東京理科大学基礎工学部
-
八木 幸恵
山口東京理科大基礎工学科
-
清原 修二
東京理科大学 基礎工学部
-
谷口 淳
東京理科大学
-
宮本 岩男
東京理科大学基礎工学部
-
影山 千花
東京理科大学基礎工学部
-
八木 幸恵
東京理科大学基礎工学部
-
森 克
東京理科大学基礎工学部
-
宮本 岩男
東京理科大学
-
清原 修二
山口東京理科大学 基礎工
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