宮本 岩男 | 東京理科大学基礎工学部

スポンサーリンク

概要

• 宮本 岩男の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京理科大学基礎工学部の論文著者

関連著者

• 宮本 岩男

  東京理科大学基礎工学部

• 宮本 岩男

  東京理科大学

• 谷口 淳

  東京理科大学基礎工学部

• 宮本 岩男

  東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻

• 谷口 淳

  東京理科大学

• 谷口 淳

  東京理大 基礎工

• Taniguchi J

  Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science

• TANIGUCHI Jun

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• Taniguchi Jun

  Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science

• MIYAMOTO Iwao

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• Miyamoto Iwao

  Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science

• 清原 修二

  山口東京理科大学 基礎工

• 清原 修二

  東京理科大学 基礎工学部

• Hiroshima H

  National Inst. Of Advanced Industrial Sci. And Technol. (aist) Ibaraki Jpn

• 森田 昇

  富山大学大学院理工学研究部

• 芦田 極

  (独)産業技術総合研究所

• 森田 昇

  富山大工

• 森田 昇

  千葉大学工学部

• Kogo Y

  Department Of Materials Science And Technology Tokyo University Of Science

• Kogo Yasuo

  Department Of Material Science And Technology Tokyo University Of Science

• Komuro M

  Mirai Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Scienc

• 谷口 紀男

  東京理科大学

• 川堰 宣隆

  富山県工業技術センター企画管理部

• 谷口 紀男

  東京理科大学理工学部

• 大野 直人

  東京理科大学基礎工学部

• 向後 保雄

  東京理科大

• 森田 昇

  富山大学工学部

• 川堰 宣隆

  富山大学大学院

• 花田 修賢

  理研

• 杉岡 幸次

  理研

• 緑川 克美

  理研

• 緑川 克美

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 安野 拓也

  いわき明星大学科学技術学部システムデザイン工学科

• 緑川 克美

  理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ

• MORITA Noboru

  Department of Chemistry, Graduate School of Science, Tohoku University

• 坂本 直道

  いわき明星大学科学技術学部

• 花田 修賢

  理化学研究所

• 杉岡 幸次

  理化学研究所

• 神谷 健一

  東京理科大学基礎工学部

• 古室 昌徳

  産総研

• 杉岡 幸次

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 向後 保雄

  東京理大 基礎工

• 向後 保雄

  東京理科大学

• 向後 保雄

  東京理科大学基礎工学部材料工学科

• Morita Noboru

  Department Of Mechanical And Intellectual Systems Engineering University Of Toyama

• 稲垣 浩幸

  東京理科大学

• Morita Noboru

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Tohoku University

• KOMURO Masanori

  Advanced Semiconductor Research Center, AIST

• KOGO Yasuo

  Department of Material Science and Technology, Faculty of Industrial Science and Technology, Tokyo U

• 安野 拓也

  いわき明星大学科学技術学部

• Kogo Yasuo

  Department Of Material Science And Engineering Science University Of Tokyo

• HIROSHIMA Hiroshi

  Advanced Semiconductor Research Center; AIST

• KAWASEGI Noritaka

  Graduate School of Science and Engineering, University of Toyama

• Yasuno Takuya

  Department Of Mechanical Engineering Iwaki Meisei University

• SAKAMOTO Naomichi

  Department of Electronics and Computer Science, Iwaki Meisei University

• TOKANO Yuji

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• Tokano Yuji

  Department Of Applied Electronics Tokyo Science University

• Yagi Takahiro

  Tokyo University Of Science:(present Address)toyota Motor Co.

• Sakai N

  Department Of Electronics And Computer Science Iwaki Meisei University

• 安野 拓也

  いわき明星大

• 緑川 克美

  理化学研究所 基幹研究所 エクストリームフォトニクス研究グループ

• 緑川 克美

  (独)理化学研究所高強度軟x線アト秒パルス研究チーム

• KAWASEGI Noritaka

  Toyama Industrial Technology Center

• 坂本 直道

  いわき明星大学理工学部電子工学科

• YAMADA Shigeru

  Department of Social Systems Engineering, Faculty of Engineering, Tottori University

• 松井 真二

  姫路工業大学高度産業科学技術研究所

• 高野 登

  富山大学工学部

• 百田 佐多生

  高知工科大

• 百田 佐多生

  高知工科大学工学部

• 芦田 極

  産業技術総合研究所

• KAWASAKI Takeshi

  Department of Physics, Faculty of Science, Tokyo University of Science

• 川堰 宣隆

  富山県工業技術センター

• 本田 智

  首都大学東京都市教養学部理工学系機械工学コース

• 芦田 極

  産総研

• 柴田 浩一

  千葉大学大学院自然科学研究科

• 本田 智

  東京理科大学大学院

• 正木 隆嗣

  東京理科大学 基礎工学部

• 北沢 一茂

  東京理科大学 基礎工学部

• 横山 純之輔

  東京理科大学基礎工学部

• 竹澤 悟

  東京理科大学基礎工学部

• 影山 千花

  東京理科大学基礎工学部

• 清原 修二

  山口東京理科大基礎工学科

• Kawasaki Takeshi

  Department Of Chemistry Faculty Of Science Toho University

• 木村 領志

  東京理科大学基礎工学部

• KOMURO Masanori

  Electrotechnical Laboratory

• HIROSHIMA Hiroshi

  Electrotechnical Laboratory

• 古室 昌徳

  産業技術総合研究所次世代半導体センター

• 八木 貴弘

  東京理科大学基礎工学部:(現)(株)トヨタ自動車

• Yamada Shigeru

  Department Of Mechanical And Intellectual Systems Engineering University Of Toyama

• 高野 登

  富山大学

• Taniguchi Jun

  Faculty Of Industrial Science And Technology Tokyo University Of Science

• TAKANO Noboru

  Department of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, University of Toyama

• OYAMA Tatsuo

  Department of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, University of Toyama

• MOMOTA Sadao

  Department of Intelligent Mechanical Systems Engineering, Kochi University of Technology

• Momota Sadao

  Kochi University Of Technology

• Oyama Tatsuo

  Department Of Mechanical And Intellectual Systems Engineering University Of Toyama

• Takano Noboru

  Department Of Mechanical And Intellectual Systems Engineering University Of Toyama

• 戸叶 雄士

  東京理科大学基礎工学部

• YAGI Takahiro

  Tokyo University of Science

• SAKAMOTO Naomichi

  College of Science and Technology, Iwaki Meisei University

• KOGO Yasuo

  Faculty of Industrial Science and Technology, Tokyo University of Science

• YASUNO Takuya

  College of Science and Technology, Iwaki Meisei University

• MIYAMOTO Iwao

  Faculty of Industrial Science and Technology, Tokyo University of Science

• OHNO Naoto

  Department of Applied Electronics, Science University of Tokyo

• 木村 領志

  東京理科大学

• Yamada Shigeru

  Department Of Food & Health Sciences Faculty Of Human Life Sciences Jissen Women's Universi

• Ohno N

  Osaka Electro‐communication Univ. Neyagawa Jpn

• 高井 裕司

  東京電機大学工学部

• SAKAI Nobuji

  Toyo Gosei Co., Ltd., Photosensitive Materials Research Center

• 広瀬 喜久治

  大阪大学大学院工学研究科

• 山田 茂

  富山大学工学部

• 大山 達雄

  富山大学工学部

• 森田 昇

  富山大学大学院理工学研究部工学領域

• 山田 茂

  富山大学

• 河野 弘幸

  理研BSI

• 安藤 学

  キヤノン(株)

• 広瀬 喜久治

  阪大院工

• 小野 倫也

  阪大院工

• 緑川 克美

  理化学研究所 緑川レーザー物理工学研究室

• 土本 剛義

  東京理科大学

• 小幡 孝太郎

  理化学研究所

• 神田 一浩

  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所

• 松井 真二

  姫工大高度研

• 宮脇 敦史

  脳科学総合研究センター

• 深瀬 達也

  富山大学大学院理工学教育部

• 川堰 宣隆

  富山大学 工学部

• 野村 和司

  Euva相模原研究開発センタ

• 小野 倫也

  大阪大学大学院工学研究科:大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター

• 八木 幸恵

  山口東京理科大基礎工学科

• 廣島 洋

  電子技術総合研究所 超分子部 極限技術部 電子デバイス部

• 高井 裕司

  東京電機大学

• 高瀬 史裕

  東京電機大学 工学部電気工学科

• 宮脇 敦史

  理化学研究所脳科学総合研究センター

• 柴田 浩一

  千葉大院

• 森田 昇

  富山大学

• 古室 昌徳

  電子技術総合研究所

• 大山 達雄

  富山大学

• 木村 裕一

  東京理科大学 基礎工学部

• 原 正子

  東京理科大学 基礎工学部

• 西村 一仁

  北九州職業能力開発短期大学校

• 荒木 真

  東京理科大学基礎工学研究科

• Tada Kentaro

  Toyo Gosei Co. Ltd.

• Inoue S

  Toshiba Corp. Kawasaki Jpn

• Sakai Nobuji

  Toyo Gosei Co. Ltd Chiba Jpn

• Sakai Nobuji

  Toyo Gosei Co. Ltd.

• 小松崎 敦稔

  東京理科大学基礎工学部

• 木津 正二郎

  東京理科大学基礎工学部

• 沼田 敦史

  キヤノン(株)

• 瀧野 日出雄

  EUVA相模原研究開発センタ

• 安藤 学

  EUVA宇都宮(旧下丸子)研究開発センタ

• 沼田 敦史

  EUVA宇都宮(旧下丸子)研究開発センタ

• 松井 真二

  兵庫県立大

• 瀧野 日出雄

  (株)ニコン

• INOUE Seiji

  Department of Biochemistry, Osaka University of Pharmaceutical Sciences

• 八木 貴弘

  東京理科大学基礎工学部

• 八本 貴弘

  東京理科大学大学院

• 谷口 淳

  東理大

• 竹澤 悟

  東理大

• 神田 一浩

  姫工大

• 宮本 岩男

  東理大

• 河端 雄作

  東京理科大学基礎工学部

• 飯田 将道

  東京理科大学基礎工学部

• 土本 剛義

  理化学研究所

• 河野 弘幸

  脳科学総合研究センター

• 野村 和司

  ニコン

• Inoue Seiji

  Mirai Advanced Semiconductor Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And T

• 八木 幸恵

  東京理科大学基礎工学部

• 森 克

  東京理科大学基礎工学部

• 森 克巳

  山口東京理科大基礎工学科

• 神田 雄一

  東洋大学大学院工学部

• 田篠 文照

  東洋大学大学院工学部

• 森 克巳

  山口東京理科大学 基礎工

• 緑川 克美

  理研レーザー物理工学研究室

• 高野 登

  富山大・工

• 森田 昇

  株式会社不二越

• 泉 賢之

  東京理科大学基礎工学部

• 神田 雄一

  東洋大学大学院

• 松井 真二

  姫路工業大学理学部大学院高度研crest-jst

• Ashida Kiwamu

  Advanced Manufacturing Research Institute National Institute Of Advanced Industrial Science And Tech

• 廣島 洋

  産総研

• 渡辺 修

  東京理科大学基礎工学部

• Yamazaki Noboru

  Sumitomo Electric Industries Ltd.

• KURASHIMA Yuichi

  MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Scie

• HIROSHIMA Hiroshi

  MIRAI, Advanced Semiconductor Research Center (ASRC), National Institute of Advanced Industrial Scie

• KOMURO Masanori

  Oita Industrial Research Institute

• YAMAZAKI Naoto

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• NAKAO Takaaki

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• Tada Kentaro

  Toyo Gosei Chiba Jpn

• KASAHARA Nobuyuki

  Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science

• KOBAYASHI Kazuhiko

  CRESTEC

• MIYAZAKI Takeshi

  CRESTEC

• OHYI Hideyuki

  CRESTEC

• Nakao Takaaki

  Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science

• 高井 裕司

  東京電機大 工

• Honda Satoshi

  Department Of Applied Electronics Science University Of Tokyo

• 三木 浩二

  東京理科大学 基礎工学部

• Kasahara Nobuyuki

  Department Of Applied Electronics Tokyo University Of Science

• 徳永 誠人

  東京理科大学基礎工学部

• 国府 哲也

  東京理科大学 基礎工学部

• 高瀬 史裕

  東京電機大学工学部電気工学科

もっと見る 閉じる

著作論文

• レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工及びメカニズム研究
• 集束イオンビーム照射と化学エッチングを併用した3次元微細構造形成 : 微細構造形成の高能率化(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• ナノスケール機械加工と化学エッチングを併用した3次元極微細構造形成 : 第3報,エッチング加速作用のFIB照射条件依存性と3次元微細構造形成への応用(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• 209 集束イオンビーム照射と化学エッチングを併用した極微細構造形成(OS6 超精密加工)
• ナノスケール機械加工と化学エッチングを併用した3次元極微細構造形成 : 第2報,集束イオンビーム照射を利用した3次元微細構造形成の可能性(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工
• 集束イオンビームとアルカリエッチングを併用した極微細加工
• ダイヤモンドからの電界電子放出に関する研究 : 電界電子放出素子作製法の開発及び電界電子放出中のダイヤモンド表面の電子論的解析
• 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第4報) -ボロンドープダイヤモンドの加工特性-
• 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第3報) -加工形状のAFM観察-
• 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第2報)-走査速度や加速電圧を変えた場合-
• EUV露光装置用光学素子加工技術の開発
• 118 FIB-CVD法で作製したDLCマイクロ構造体とSi基板間の界面微細構造(材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向)
• ナノインプリント技術のホログラムへの応用
• SOGレジストの電子ビーム露光特性
• FIB-CVD法を用いて作製したDLC膜の微細構造解析
• FIB-CVD法によるDLC成形プロセスとその特性評価(マイクロマテリアル)
• ナノ・マイクロ加工のためのドライエッチング技術
• 三次元ナノインプリントにおける金型作製技術の現状と将来展望 (特集2 ナノインプリント技術の応用と将来展望)
• SOG(Spin On Glass)膜を用いた3次元モールドの作製技術 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
• ナノインプリント技術の足跡 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
• イオンビームと電子ビームを用いたダイヤモンドの微細加工
• 319 SOG をマスクとしたシンクロトロン放射光による微細加工
• 単結晶ダイヤモンドの反応性イオンビーム援用化学加工とXPSによる照射損傷評価
• SOGを用いて製作したダイヤモンドのマイクロ加工
• F_2レーザー表面改質による紫外線透過ポリマーの親水化と細胞観察用マイクロチップの作製
• 単結晶ダイヤモンドのリアクティブイオンビーム加工-ナフテン酸金属塩をマスクとした微細パターンの形成-
• ナフテン酸金属塩の酸素イオンビーム加工特性
• ダイヤモンドのリアクティブイオンビーム援用化学加工(第1報)-加工特性について-
• 単結晶ダイヤモンド(100)面の酸素ラジカル加工(第1報) -加工特性について-
• ダイヤモンドバイトの酸素イオンビーム加工(第1報) -切れ刃の先鋭化とマイクロチッピングの除去-
• ECR型イオン源を用いた単結晶ダイヤモンドの酸素イオンビーム加工
• ダイヤモンド(100)面のイオンビーム援用化学加工(第2報) -比加工速度の試料温度依存性について-
• ダイヤモンド探針の酸素イオンビーム加工(第1報) -形状変化の計算機シミュレーション-
• イオンビームを用いたCVDダイヤモンド薄膜の平滑化(第2報)-エッチバック法を用いた場合-
• 表面活性化接合によるナノインプリントリソグラフィー
• ダイヤモンドを用いたナノインプリントリソグラフィ
• Optimization of Processing Condition for Deposition of DLC Using FIB-CVD Method(Advanced Manufacturing Technology (II))
• Optimization of Processing Condition for Deposition of DLC using FIB-CVD Method(M^4 processes and micro-manufacturing for science)
• Influence of Heat Treatment on Mechanical Properties of DLC Deposited by FIB-CVD(Recent Advances in Materials and Processing (I))
• 圧力印加による新半導体リソグラフィー技術
• ナノインプリント技術の現状
• Three-Dimensional Nanofabrication Utilizing Selective Etching of Silicon Induced by Focused Ion Beam Irradiation
• Deep Structure Fabrication of Silicon Utilizing High-Energy Ion Irradiation Followed by Wet Chemical Etching(M^4 processes and micro-manufacturing for science)
• Fabrication of Low Line Edge Roughness Mold by Spin On Glass (SOG) Replica Method
• 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第1報) -ダイヤモンド(110)面の加工特性-
• 酸素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第5報) -電子ビームの照射面積を広くした場合-
• Evaluation of UV-nanoimprinted surface roughness using Si mold with atomically flat terraces
• Nano-order Rapid Patterning of Quartz Surface Using Focused Ion Beam(M^4 processes and micro-manufacturing for science)
• Measurement of Adhesive Force Between Mold and Photocurable Resin in Imprint Technology
• Improvement of Imprinted Pattern Uniformity Using Sapphire Mold
• Uniformity in Patterns Imprinted Using Photo-Curable Liquid Polymer
• Preparation of Diamond Mold Using Electron Beam Lithography for Application to Nanoimprint Lithography
• Electron Beam Assisted Chemical Etching of Single-Crystal Diamond Substrates with Hydrogen Gas
• マイクロピッチラックを用いた微動テーブルの試作 (第2報)
• 歩行ロボット用足裏滑り覚センサの試作
• 電子・集束イオンビーム援用化学加工によるダイヤモンドの微細加工:電子ビームとイオンビームにおける加工特性の違い
• ダイヤモンドのイオンビーム・電子ビーム加工
• スピンオングラスをマスクとしたダイヤモンドの微細加工
• 電子・集束イオンビーム援用化学加工によるダイヤモンドの微細加工
• 高精度表面加工技術の動向 (特集 ナノ加工・ナノ計測)
• 電子ビーム援用化学加工山法によるダイヤモンドの微細パターン形成
• レジストプロセスを用いた単結晶ダイヤモンドの微細加工
• イオンスパッタ加工法の研究(第3報) : 微小先端半径をもつダイヤモンド触針の成形
• イオンビーム加工とその応用
• イオンスパッタ加工法の研究(第2報) : ダイヤモンドの加工
• イオンスパッタ加工法の研究 (第1報) : Si単結晶のイオンスパッタ加工による格子不整
• 酸素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第3報)-線パターンや矩形パターンの加工特性-
• Electron Beam Assisted Chemical Etching of Single Crystal Diamond Substrates
• イオンビ-ム加工における帯電 (先端技術と帯電)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク