杉岡 幸次 | 理化学研究所レーザー物理工学研究室
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概要
関連著者
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杉岡 幸次
理化学研究所レーザー物理工学研究室
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杉岡 幸次
理化学研究所
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緑川 克美
理化学研究所レーザー物理工学研究室
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緑川 克美
理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ
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緑川 克美
理化学研究所 基幹研究所 エクストリームフォトニクス研究グループ
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豊田 浩一
理研
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杉岡 幸次
理研
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緑川 克美
理研
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高井 裕司
東京電機大学工学部
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豊田 浩一
理化学研究所
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豊田 浩一
東京理科大学
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高井 裕司
東京電機大 工
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緑川 克美
(独)理化学研究所高強度軟x線アト秒パルス研究チーム
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田代 英夫
理化学研究所光バイオプシー開発ユニット
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小幡 孝太郎
理化学研究所
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田代 英夫
理化学研究所
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高井 裕司
東京電機大学
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緑川 克美
(独)理化学研究所基幹研究所
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和田 智之
理化学研究所
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花田 修賢
理研
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花田 修賢
理化学研究所
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和田 智之
理研
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河野 弘幸
理研BSI
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宮脇 敦史
理化学研究所脳科学総合研究センター
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十文字 正之
東京電機大学工学部
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河野 弘幸
理研レーザー物理
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緑川 克美
理化学研究所
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河野 弘幸
理化学研究所 脳科学総合研究センター
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宮脇 敦史
理化学研究所 脳科学総合研究センター
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宮脇 敦史
理化学研究所脳科学総合研究センター 先端技術開発グループ細胞機能検索技術開発チーム
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小幡 孝太郎
東京電機大学工学部
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石川 依久子
理研BSI
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石川 依久子
理化学研究所脳科学センター
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宮本 岩男
東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻
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ZHANG J.
理化学研究所
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宮本 岩男
東京理科大学基礎工学部
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宮本 岩男
東京理科大学
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Zhang J
Department Of Community Health Science Saga Medical School
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宮本 岩男
東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻
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石川 依久子
理化学研究所 生命光学技術研究チーム
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緑川 克美
理化学研究所 緑川レーザー物理工学研究室
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土本 剛義
東京理科大学
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豊田 浩一
理化学研究所レーザー科学研究グループ
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高橋 勉
帝人製機株式会社横浜開発センター
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青木 尚子
理化学研究所
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中村 彬
東京理科大学
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茜 俊光
理化学研究所
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緑川 克美
理研レーザー物理工学研究室
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Zhang Jie
理化学研究所
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大沼 恵則
東京理科大学
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中野 人志
近畿大学理工学部
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本越 伸二
レーザー技術総合研究所
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増田 雅史
Riken The Institute Of Physical And Chemical Research
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本越 伸二
(財)レーザー技術総合研究所
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青柳 克信
理化学研究所
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野村 晋太郎
科技団:筑波大物理
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杉岡 幸次
(独)理化学研究所 基幹研究所
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中嶋 聖介
理化学研究所
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霜田 光一
元東大理学部
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霜田 光一
東京大学
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河内 雅子
HOYA Continuum Corporation
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四方山 和彦
HOYA Continuum Corporation
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岡田 龍雄
九州大学
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宮脇 敦史
脳科学総合研究センター
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霜田 光一
東京大学理学部物理学教室
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豊田 浩一
東京理科大学 基礎工学部
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田代 英夫
理化学研究所田代分子計測工学研究室
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和田 智之
(独)理化学研究所 固体光学デバイス研究ユニット
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岡田 龍雄
九州大学大学院システム情報科学研究科
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稲村 隆宏
東京電機大学大学院工学研究科電気工学専攻
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高瀬 史裕
東京電機大学 工学部電気工学科
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小幡 孝太郎
東京理科大学
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甲野 竜哉
東京電機大学
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青木 尚子
理化学研究所 バイオリソースセンター 細胞材料開発室
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Jie Zhang
理化学研究所
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増田 雅史
理化学研究所
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土本 剛義
理化学研究所
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河野 弘幸
脳科学総合研究センター
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青木 尚子
東京理科大学基礎工学部
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半村 清孝
理化学研究所
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野村 晋太郎
筑波大学物理学系
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半村 清孝
理研
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小林 卯尚
東京電機大学工学部
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島津 敏幸
東京電機大学工学部
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杉岡 照康
東京電機大学工学部
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高橋 勉
帝人精機(株)
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RUSCHIN S.
理化学研究所
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永原 忠行
東京理科大学
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高瀬 史裕
東京電機大学工学部電気工学科
著作論文
- F_2レーザ表面改質による紫外線透過性ポリマー上への細胞選択培養
- レーザー加工によるマイクロチップデバイスの作製及びその応用
- フェムト秒レーザー支援ウエットエッチング法によるGaNの微細加工
- フェムト秒レーザーによる水生微生物観察用ナノ水族館の作製
- フェムト秒レーザを用いたバイオチップデバイスの作製およびその応用
- F_2レーザアブレーションによる紫外透過性ポリマを用いたマイクロチップ電気泳動デバイスの作製
- レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工及びメカニズム研究
- エキシマレーザーアブレーションによるマイクロ磁気デバイスの作製
- KrFエキシマレーザドーピングによるN型GaAsへの自己整合的銅薄膜の堆積
- 真空紫外レーザーと紫外レーザーの機能性材料加工への応用
- レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工
- 石英ガラスのF_2-KrFレーザ多重波長励起アブレーションによる放出イオン種の観察
- レーザー加工の物理 2 : 光波長と加工
- 次世代ナノ加工技術/レーザーナノ加工
- 先端的レーザー加工法によるガラスの微細加工
- 欧米における最近のフェムト秒レーザプロセス研究・開発動向
- 極短波長レーザーによる物質プロセッシング
- 真空紫外-紫外多重波長励起アブレーション
- レーザー学会創立25周年記念学生セミナー「見て, 聞いて, 触れるレーザーセミナー」開催報告
- オプトエレクトロニクス材料へのレーザープロセシング
- 真空紫外-紫外多重波長励起アブレーション
- 真空紫外レーザー光によるアブレーション
- フェムト秒レーザーによる感光性ガラスの3次元マイクロ加工
- F_2レーザー表面改質による紫外線透過ポリマーの親水化と細胞観察用マイクロチップの作製
- LQE2000-25 パルスレーザーアブレーションによるGaNのエッチング加工
- パルスレーザー照射によるGaNの平坦化エッチング
- 窒素ラジカル源を用いたPLD法によるSi基板上のTiN薄膜成長
- 均一化ビームを用いたPLD法によるSi(100)上へのTiN薄膜成長
- エキシマレーザーダブルパルス照射法による深いドーピング層の形成
- KrFダブルパルスエキシマレーザー照射によるSiへの深い拡散層の高速形成 -コンピュータシミュレーションによる解析-
- レーザーアブレーション応用の現状と今後の展開
- 複合レーザープロセスによるハードマテリアル加工
- 複合ルーザープロセスによるハードマテリアル加工
- KrFエキシマレーザ-による深い拡散層の形成
- エキシマレーザーアブレーションによるマイクロ磁気回路の作製
- 真空紫外レーザーによる石英ガラスの屈折率制御
- 真空紫外ラマンレーザーによる難加工物質のアプレーション
- エキシマレーザを用いたSi注入堆積法によるステンレス鋼傾斜機能構造の形成
- 真空紫外ラマンレーザを用いた多重波長照射による石英ガラスのアブレーション
- 真空紫外ラマンレーザーによる多波長誘起アブレーション
- Siレーザー注入堆積によるステンレス鋼への熱的安定層の形成