高井 裕司 | 東京電機大学

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概要

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関連著者

• 高井 裕司

  東京電機大学

• 高井 裕司

  東京電機大 工

• 高井 裕司

  東京電機大学工学部

• 高井 裕司

  Tokyo Denki University

• 山本 直克

  情報通信研究機構

• 赤羽 浩一

  情報通信研究機構

• 川西 哲也

  情報通信研究機構新世代ネットワーク研究センター

• 赤羽 浩一

  (独)情報通信研究機構

• 川西 哲也

  情報通信研究機構

• 川西 哲也

  情報通信研究機構(nict)

• 山本 直克

  情報通信機構

• 赤羽 浩一

  独立行政法人 情報通信研究機構

• 田辺 圭一

  超工研

• 田辺 圭一

  (財)国際超電導産業技術研究センター

• 田辺 圭一

  国際超電導産業技術研究セ 超電導工研

• 吉岡 佑毅

  東京電機大学

• 赤羽 浩一

  情報通信機構

• 田辺 圭一

  超電導工学研究所

• 吉岡 佑毅

  東京電機大学:情報通信研究機構

• 鈴木 秀雄

  超電導工学研究所

• 鈴木 秀雄

  財)国際超電導産業技術研究センター

• 田辺 圭一

  SRL

• 杉岡 幸次

  理化学研究所

• 鈴木 秀雄

  国際超電導産業技術研究センター

• 川西 哲也

  (独)情報通信研究機構新世代ネットワーク研究センター

• 杉岡 幸次

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 川西 哲也

  京大工

• 川西 哲也

  (独)情報通信研究機構

• 山本 直克

  独立行政法人 情報通信研究機構

• 川西 哲也

  独立行政法人情報通信研究機構新世代ネットワーク研究センター

• 吉岡 佑毅

  情報通信研究機構

• 藤岡 裕己

  東京電機大学工学部

• 緑川 克美

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 緑川 克美

  理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ

• 小幡 孝太郎

  理化学研究所

• 藤岡 裕己

  東京電機大学

• 緑川 克美

  理化学研究所 基幹研究所 エクストリームフォトニクス研究グループ

• 村上 大介

  情報通信研究機構

• 安田 真爾

  情報通信研究機構

• 豊田 浩一

  理研

• 遠藤 武

  東京電機大学

• 加藤 望

  東京電機大学

• 吉田 晃

  超伝導工学研究所

• 吉田 晃

  超電導工学研究所

• 蓮尾 信也

  超電導工学研究所

• 豊田 浩一

  東京理科大学

• 吉田 晃

  富士通株式会社

• 遠藤 武

  東京電機大学:(財)国際超電導産業技術研究センター

• 加藤 望

  東京電機大学:超電導工学研究所

• 氷見 拓也

  超電導工学研究所:東京電機大学

• 小幡 孝太郎

  東京電機大学工学部

• 十文字 正之

  東京電機大学工学部

• 外林 秀之

  青山学院大学理工学部

• 杉岡 幸次

  理研

• 緑川 克美

  理研

• 豊田 浩一

  理化学研究所

• 高橋 和宏

  超電導工学研究所:東京電機大学

• 古田 太

  日立中央研究所

• 長谷川 晴弘

  超電導工学研究所

• 平野 悟

  超電導工学研究所

• 宮原 一紀

  超電導工学研究所

• 氷見 拓也

  東京電機大学

• 川西 哲也

  独立行政法人 情報通信研究機構

• 外林 秀之

  青山学院大学理工学部:情報通信研究機構

• 外林 秀之

  青山学院大学

• 山本 直克

  通信総合研究所 基礎先端部門

• 長谷川 靖弘

  超電導工学研究所

• 山本 直克

  東京電機大学

• 緑川 克美

  (独)理化学研究所高強度軟x線アト秒パルス研究チーム

• 永沢 秀一

  超電導工学研究所

• 泉 仁人

  東京電機大学工学部

• 外林 秀之

  青山学院大学理工学部:(独)情報通信研究機構

• 田辺 圭一

  (財)国際超伝導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 榎本 陽一

  超電導工学研究所

• 氷見 拓也

  超電導工学研究所

• 伊藤 友哉

  東京電機大学

• 田口 敦司

  超電導工学研究所:東京電機大学

• 永沢 秀一

  超電導工学研

• 日高 睦夫

  超電導工学研究所

• 福永 香

  独立行政法人情報通信研究機構

• 大谷 直毅

  同志社大

• 外林 秀之

  情報通信研究機構

• 前野 恭

  独立行政法人情報通信研究機構

• 福永 香

  情報通信研究機構

• 花田 修賢

  理研

• 福永 香

  通信総研

• 前野 恭

  通信総研

• 高橋 和弘

  超電導工学研究所

• 緑川 克美

  理化学研究所

• 花田 修賢

  理化学研究所

• 宮本 岩男

  東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻

• 日高 睦夫

  国際超電導産業技術研究センター

• 川西 哲也

  通総研

• 鈴木 秀雄

  (財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所

• 田口 敦司

  超電導工学研究所

• 田口 敦司

  東京電機大学

• 古田 太

  日立製作所基礎研究所

• 斉藤 和夫

  日立製作所基礎研究所

• 豊田 浩一

  東京理科大学 基礎工学部

• 大谷 直毅

  通信総合研究所

• 小見川 祐

  青山学院大学理工学部

• 石原 和政

  東京電機大学

• 日高 睦夫

  財)国際超電導産業技術研究センター

• 高橋 勉

  帝人製機株式会社横浜開発センター

• 赤羽 浩一

  東京電機大学

• 柴 省自

  東京電機大学

• 阿部 司

  東京電機大学

• 稲村 隆宏

  東京電機大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 高瀬 史裕

  東京電機大学 工学部電気工学科

• 小幡 孝太郎

  東京理科大学

• 甲野 竜哉

  東京電機大学

• 柴 隆一

  東京電機大 工

• 柴 隆一

  東京電機大学

• 柴 隆一

  Tokyo Denki University

• 宮本 岩男

  東京理科大学基礎工学部

• 藤岡 裕己

  東京電気大学

• 高井 裕司

  東京電気大学

• 宮本 岩男

  東京理科大学

• 村上 貴昭

  Tokyo Denki University

• 小林 卯尚

  東京電機大学工学部

• 島津 敏幸

  東京電機大学工学部

• 石原 和政

  国際超電導産業技術研究センター:東京電機大学

• 鈴木 秀雄

  (財)国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 住谷 篤

  東京電機大学

• 斉藤 賢志

  東京電機大学

• 飯塚 孝志

  東京電機大

• 吉本 和夫

  東京電機大

• 杉岡 照康

  東京電機大学工学部

• 高橋 勉

  帝人精機(株)

• 舘野 裕哉

  東京電機大学

• 高瀬 史裕

  東京電機大学工学部電気工学科

• 宮本 岩男

  東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻

• 舘野 裕哉

  東京電機大学:超電導工学研究所

• 川西 哲也

  (独)情報通信研究機構光ネットワーク研究所

• 倉田 泰成

  青山学院大学

• 吉岡 佑穀

  東京電機大学

• 高井 祐司

  東京電機大学

• 吉岡 佑毅

  情報通信研究機構:東京電機大学

• 外林 秀之

  情報通信研究機構:青山学院大学

• 日高 睦夫

  国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所

• 日高 睦夫

  国際超電導産技研センター

• 小見川 祐

  青山学院大学

• 古田 太

  日立製作所中央研究所

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著作論文

• ドープガラスによるマイクロ原子タグの作製と評価(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
• ドープガラスによるマイクロ原子タグの作製と評価(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
• C-8-17 単一磁束量子回路の出力データレート増倍回路の高速動作(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• C-8-16 ACドライバー回路におけるグランドプレーンの影響(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• C-8-14 AC駆動スタック型ドライバー回路の動作検討(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• C-8-13 単一磁束量子回路の出力データレートの増倍回路(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• AC駆動スタック型ドライバー回路の動作検討
• C-8-5 3入力XOR回路を用いた超電導4ビット全加算器の設計
• C-8-2 3入力XOR回路で構成した超電導全加算器
• C-8-5 ダブラ回路を用いた超電導1次シグマデルタモジュレータの特性(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
• C-8-5 超電導ADコンバータ用ダブラー回路(C-8.超伝導エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
• C-8-4 超電導1次シグマデルタモジュレータの特性評価(C-8.超伝導エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
• C-8-5 スパイラルインダクタを用いたDCラッチドライバ(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• 光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発
• C-10-5 二元同時蒸着法によるβ-FeSi_2薄膜の作成(C-10.電子デバイス,エレクトロニクス2)
• SC-8-4 超伝導シングル・ループ・シグマ・デルタ変調器(SC-8.超伝導SFQ回路技術の最近の進展)
• C-8-15 ADコンバータのビット精度と浮遊インピーダンスの関係(C-8.超伝導エレクトロニクス)
• 真空紫外レーザーと紫外レーザーの機能性材料加工への応用
• レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工
• C-8-7 3 入力 XOR 回路を用いた超電導全加算器の高速動作
• 食物摂取にともなう血糖値変化の数値モデルの一提案
• 石英ガラスのF_2-KrFレーザ多重波長励起アブレーションによる放出イオン種の観察
• フォトケミカルエッチング法により作成した シリコン系可視発光層からのエレクトロルミネッセンス測定
• 光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 放電化学作用からみたエポキシ樹脂の内部部分放電劣化
• PVCの空間電荷形成と漏れ電流特性に及ぼす安定剤の影響
• 窒素ラジカル源を用いたPLD法によるSi基板上のTiN薄膜成長
• 均一化ビームを用いたPLD法によるSi(100)上へのTiN薄膜成長
• エキシマレーザーダブルパルス照射法による深いドーピング層の形成
• KrFダブルパルスエキシマレーザー照射によるSiへの深い拡散層の高速形成 -コンピュータシミュレーションによる解析-
• 環境半導体を用いたシリコン系ダブルヘテロ構造の開発
• 2元部分イオン化蒸着によるシリコン系赤外発光デバイスの開発
• 部分イオン化エピタキシャル成長法によるβ-鉄シリサイドの低温結晶成長
• 光-光スイッチングデバイスのための半導体ナノ構造の特性評価
• 編込み金属線による熱電変換パネルの発電特性
• シリコン系可視発光層形成プロセスとしてのフォトケミカルエッチング法の提案とパーコレーションモデルによる特性解析
• シリコン超微粒子薄膜の多層積層構造による可視発光デバイスの研究
• 調和振動モデルによる多孔質シリコンの可視発光の解析
• 反応性溶液中でのレーザー照射によるシリコン系可視発光材料の作成
• エポキシ樹脂中の空間電荷分布の観測
• ダブルパルスエキシマレ-ザ-照射によるSiへの拡散層高速形成コンピュ-タシミュレ-ションによる解析
• KrFエキシマレーザ-による深い拡散層の形成
• エキシマレーザーアブレーションによるマイクロ磁気回路の作製
• C-8-3 SFQ回路におけるダブラー回路のセルベース化及び高周波測定(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
• 光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発
• 広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発
• 広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
• 広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
• 広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
• 広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
• B-13-25 ホーリーファイバ伝送システムによるO-band光周波数資源の評価(B-13.光ファイバ応用技術,一般セッション)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
• C-4-25 量子ドット技術による広帯域波長可変光源(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)

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