小幡 孝太郎 | 東京電機大学工学部

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概要

• 島 浩基の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京電機大学工学部の論文著者

関連著者

• 高井 裕司

  東京電機大学工学部

• 杉岡 幸次

  理化学研究所

• 小幡 孝太郎

  理化学研究所

• 高井 裕司

  東京電機大学

• 杉岡 幸次

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 小幡 孝太郎

  東京電機大学工学部

• 高井 裕司

  東京電機大 工

• 緑川 克美

  理化学研究所レーザー物理工学研究室

• 緑川 克美

  理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ

• 緑川 克美

  理化学研究所 基幹研究所 エクストリームフォトニクス研究グループ

• 豊田 浩一

  理研

• 豊田 浩一

  東京理科大学

• 十文字 正之

  東京電機大学工学部

• 豊田 浩一

  理化学研究所

• 小林 卯尚

  東京電機大学工学部

• 島津 敏幸

  東京電機大学工学部

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著作論文

• 窒素ラジカル源を用いたPLD法によるSi基板上のTiN薄膜成長
• 均一化ビームを用いたPLD法によるSi(100)上へのTiN薄膜成長
• エキシマレーザーダブルパルス照射法による深いドーピング層の形成
• KrFダブルパルスエキシマレーザー照射によるSiへの深い拡散層の高速形成 -コンピュータシミュレーションによる解析-

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