KrFダブルパルスエキシマレーザー照射によるSiへの深い拡散層の高速形成 -コンピュータシミュレーションによる解析-
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概要
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- 1997-01-01
著者
-
高井 裕司
東京電機大学工学部
-
豊田 浩一
理研
-
豊田 浩一
理化学研究所
-
杉岡 幸次
理化学研究所
-
小幡 孝太郎
理化学研究所
-
豊田 浩一
東京理科大学
-
高井 裕司
東京電機大学
-
杉岡 幸次
理化学研究所レーザー物理工学研究室
-
小幡 孝太郎
東京電機大学工学部
-
十文字 正之
東京電機大学工学部
-
島津 敏幸
東京電機大学工学部
-
高井 裕司
東京電機大 工
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