C-10-5 二元同時蒸着法によるβ-FeSi_2薄膜の作成(C-10.電子デバイス,エレクトロニクス2)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-09-07
著者
-
山本 直克
情報通信研究機構
-
高井 裕司
東京電機大学工学部
-
高井 裕司
東京電機大学
-
高井 裕司
Tokyo Denki University
-
柴 省自
東京電機大学
-
阿部 司
東京電機大学
-
高井 裕司
東京電機大 工
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