フォトケミカルエッチング法により作成した シリコン系可視発光層からのエレクトロルミネッセンス測定
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
ドープガラスによるマイクロ原子タグの作製と評価(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
-
ドープガラスによるマイクロ原子タグの作製と評価(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
-
C-8-17 単一磁束量子回路の出力データレート増倍回路の高速動作(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
C-8-16 ACドライバー回路におけるグランドプレーンの影響(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
C-8-14 AC駆動スタック型ドライバー回路の動作検討(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
C-8-13 単一磁束量子回路の出力データレートの増倍回路(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
AC駆動スタック型ドライバー回路の動作検討
-
C-8-5 3入力XOR回路を用いた超電導4ビット全加算器の設計
-
C-8-2 3入力XOR回路で構成した超電導全加算器
-
C-8-5 ダブラ回路を用いた超電導1次シグマデルタモジュレータの特性(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
-
C-8-5 超電導ADコンバータ用ダブラー回路(C-8.超伝導エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
-
C-8-4 超電導1次シグマデルタモジュレータの特性評価(C-8.超伝導エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
-
C-8-5 スパイラルインダクタを用いたDCラッチドライバ(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発
-
C-10-5 二元同時蒸着法によるβ-FeSi_2薄膜の作成(C-10.電子デバイス,エレクトロニクス2)
-
SC-8-4 超伝導シングル・ループ・シグマ・デルタ変調器(SC-8.超伝導SFQ回路技術の最近の進展)
-
C-8-15 ADコンバータのビット精度と浮遊インピーダンスの関係(C-8.超伝導エレクトロニクス)
-
真空紫外レーザーと紫外レーザーの機能性材料加工への応用
-
レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)による透明材料の微細加工
-
C-8-7 3 入力 XOR 回路を用いた超電導全加算器の高速動作
-
食物摂取にともなう血糖値変化の数値モデルの一提案
-
石英ガラスのF_2-KrFレーザ多重波長励起アブレーションによる放出イオン種の観察
-
フォトケミカルエッチング法により作成した シリコン系可視発光層からのエレクトロルミネッセンス測定
-
光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
-
光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
-
光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
-
放電化学作用からみたエポキシ樹脂の内部部分放電劣化
-
PVCの空間電荷形成と漏れ電流特性に及ぼす安定剤の影響
-
窒素ラジカル源を用いたPLD法によるSi基板上のTiN薄膜成長
-
均一化ビームを用いたPLD法によるSi(100)上へのTiN薄膜成長
-
エキシマレーザーダブルパルス照射法による深いドーピング層の形成
-
KrFダブルパルスエキシマレーザー照射によるSiへの深い拡散層の高速形成 -コンピュータシミュレーションによる解析-
-
環境半導体を用いたシリコン系ダブルヘテロ構造の開発
-
2元部分イオン化蒸着によるシリコン系赤外発光デバイスの開発
-
部分イオン化エピタキシャル成長法によるβ-鉄シリサイドの低温結晶成長
-
光-光スイッチングデバイスのための半導体ナノ構造の特性評価
-
編込み金属線による熱電変換パネルの発電特性
-
シリコン系可視発光層形成プロセスとしてのフォトケミカルエッチング法の提案とパーコレーションモデルによる特性解析
-
シリコン超微粒子薄膜の多層積層構造による可視発光デバイスの研究
-
調和振動モデルによる多孔質シリコンの可視発光の解析
-
反応性溶液中でのレーザー照射によるシリコン系可視発光材料の作成
-
エポキシ樹脂中の空間電荷分布の観測
-
ダブルパルスエキシマレ-ザ-照射によるSiへの拡散層高速形成コンピュ-タシミュレ-ションによる解析
-
KrFエキシマレーザ-による深い拡散層の形成
-
エキシマレーザーアブレーションによるマイクロ磁気回路の作製
-
エキシマレーザを用いたSi注入堆積法によるステンレス鋼傾斜機能構造の形成
-
Siレーザー注入堆積によるステンレス鋼への熱的安定層の形成
-
C-8-3 SFQ回路におけるダブラー回路のセルベース化及び高周波測定(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
-
エキシマレ-ザ-によるSiへの深い拡散層の高速形成
-
光波制御を目的とした半導体ハーフクラッド光源の開発
-
広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発
-
レーザー生成プラズマ支援アブレーション(LIPAA)によるサファイアの加工
-
広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
-
広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
-
広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
-
広帯域量子ドット光ゲインによるT-, O-バンド外部共振器型波長可変光源の開発(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
-
B-13-25 ホーリーファイバ伝送システムによるO-band光周波数資源の評価(B-13.光ファイバ応用技術,一般セッション)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
表面光伝搬のための半導体ハーフクラッド構造の開発
-
C-4-25 量子ドット技術による広帯域波長可変光源(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
-
InAs/InGaAs量子ドット構造を用いた広帯域量子ドット光ゲインデバイスの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
-
InAs/InGaAs量子ドット構造を用いた広帯域量子ドット光ゲインデバイスの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
-
InAs/InGaAs量子ドット構造を用いた広帯域量子ドット光ゲインデバイスの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
-
InAs/InGaAs量子ドット構造を用いた広帯域量子ドット光ゲインデバイスの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
-
InAs/InGaAs量子ドット構造を用いた広帯域量子ドット光ゲインデバイスの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
-
分離型HTS-マルチターン薄膜検出コイルを用いたHTS-SQUIDグラジオメータの設計(薄膜,デバイス技術及びその応用,一般)
-
新規光周波数帯域T+Oバンドの光ネットワーク実現に向けた半導体量子ドットデバイス(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般)
-
新規光周波数帯域T+Oバンドの光ネットワーク実現に向けた半導体量子ドットデバイス(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般)
-
新規光周波数帯域T+Oバンドの光ネットワーク実現に向けた半導体量子ドットデバイス(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般)
-
新規光周波数帯域T+Oバンドの光ネットワーク実現に向けた半導体量子ドットデバイス(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般)
-
新規光周波数帯域T+Oバンドの光ネットワーク実現に向けた半導体量子ドットデバイス(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク