オプトエレクトロニクス材料へのレーザープロセシング
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概要
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石英ガラスは光エレクトロニクス材料として非常に重要な材料の一つである。本講演では、石英ガラスなどの難加工材料に対するレーザーを用いた二つの新しい精密微細加工技術について述べる。一つは真空紫外レーザー光と紫外レーザー光の多重波長励起効果を利用したものであり、もう一つはレーザー生成プラズマとレーザー光の相互作用を利用したプロセスである。これらのプロセスによって、石英ガラス表面に損傷のほとんどない微細パターンを形成することができた。さらに真空紫外レーザー光による石英ガラスの屈折率制御技術に関しても紹介する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-06-16
著者
-
和田 智之
理化学研究所
-
田代 英夫
理化学研究所光バイオプシー開発ユニット
-
緑川 克美
理化学研究所レーザー物理工学研究室
-
緑川 克美
理化学研究所
-
緑川 克美
理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ
-
杉岡 幸次
理化学研究所
-
田代 英夫
理化学研究所田代分子計測工学研究室
-
田代 英夫
理化学研究所
-
和田 智之
(独)理化学研究所 固体光学デバイス研究ユニット
-
杉岡 幸次
理化学研究所レーザー物理工学研究室
-
Jie Zhang
理化学研究所
-
ZHANG J.
理化学研究所
-
和田 智之
理研
-
Zhang J
Department Of Community Health Science Saga Medical School
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