谷口 淳 | 東京理科大学基礎工学部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
谷口 淳
東京理科大学基礎工学部
-
谷口 淳
東京理科大学
-
宮本 岩男
東京理科大学基礎工学部
-
宮本 岩男
東京理科大学
-
宮本 岩男
東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻
-
宮本 岩男
東京理科大学 基礎工学研究科電子応用工学専攻
-
谷口 淳
東京理大 基礎工
-
佐竹 信一
東京理科大学基礎工学部
-
森田 昇
富山大学大学院理工学研究部
-
芦田 極
(独)産業技術総合研究所
-
谷口 淳
東京理科大学基礎工学部 電子応用工学科
-
森田 昇
富山大工
-
森田 昇
千葉大学工学部
-
川堰 宣隆
富山県工業技術センター企画管理部
-
大野 直人
東京理科大学基礎工学部
-
向後 保雄
東京理科大
-
芝原 正彦
大阪大学
-
森田 昇
富山大学工学部
-
川堰 宣隆
富山大学大学院
-
安野 拓也
いわき明星大学科学技術学部システムデザイン工学科
-
坂本 直道
いわき明星大学科学技術学部
-
神谷 健一
東京理科大学基礎工学部
-
古室 昌徳
産総研
-
向後 保雄
東京理大 基礎工
-
向後 保雄
東京理科大学
-
向後 保雄
東京理科大学基礎工学部材料工学科
-
安野 拓也
いわき明星大学科学技術学部
-
安野 拓也
いわき明星大
-
坂本 直道
いわき明星大学理工学部電子工学科
-
佐竹 信一
東京理科大学
-
坂本 直道
いわき明星大学
-
佐藤 一穂
豊田自動織機
-
坂井 信支
東洋合成工業
-
松井 真二
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
-
高野 登
富山大学工学部
-
百田 佐多生
高知工科大
-
百田 佐多生
高知工科大学工学部
-
芦田 極
産業技術総合研究所
-
金森 宏之
東京理科大学基礎工学部
-
川堰 宣隆
富山県工業技術センター
-
功刀 資彰
原研
-
芦田 極
産総研
-
柴田 浩一
千葉大学大学院自然科学研究科
-
功刀 資彰
京都大学工学研究科
-
横山 純之輔
東京理科大学基礎工学部
-
竹澤 悟
東京理科大学基礎工学部
-
影山 千花
東京理科大学基礎工学部
-
功刀 資彰
東京大学工学系研究科
-
清原 修二
山口東京理科大学 基礎工
-
古室 昌徳
産業技術総合研究所次世代半導体センター
-
八木 貴弘
東京理科大学基礎工学部:(現)(株)トヨタ自動車
-
高野 登
富山大学
-
戸叶 雄士
東京理科大学基礎工学部
-
高野 登
富山大
-
伊藤 智義
千葉大学大学院工学研究科
-
功刀 資彰
京都大学工学系研究科
-
広瀬 喜久治
大阪大学大学院工学研究科
-
山田 茂
富山大学工学部
-
大山 達雄
富山大学工学部
-
伊藤 智義
千葉大学工学部電子機械工学科
-
森田 昇
富山大学大学院理工学研究部工学領域
-
山田 茂
富山大学
-
安藤 学
キヤノン(株)
-
広瀬 喜久治
阪大院工
-
功刀 資彰
京都大学大学院工学研究科
-
佐藤 一穂
(株)豊田自動織機
-
小野 倫也
阪大院工
-
小俣 有紀子
(株)エリオニクス
-
神田 一浩
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
松井 真二
姫工大高度研
-
深瀬 達也
富山大学大学院理工学教育部
-
川堰 宣隆
富山大学 工学部
-
野村 和司
Euva相模原研究開発センタ
-
功刀 資彰
京都大学
-
町長 賢一
東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻
-
海野 徳幸
東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻
-
大幸 武司
東洋合成工業(株)感光材研究所
-
平澤 玉乃
東洋合成工業(株)新規事業開発部 ナノテクグループ
-
太田口 誠
東洋合成工業(株)新規事業開発部 ナノテクグループ
-
小野 倫也
大阪大学大学院工学研究科:大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター
-
八木 幸恵
山口東京理科大基礎工学科
-
廣島 洋
電子技術総合研究所 超分子部 極限技術部 電子デバイス部
-
柴田 浩一
千葉大院
-
森田 昇
富山大学
-
古室 昌徳
電子技術総合研究所
-
大山 達雄
富山大学
-
清原 修二
東京理科大学 基礎工学部
-
荒木 真
東京理科大学基礎工学研究科
-
坂井 信支
東洋合成工業(株)新規事業開発部ナノテクグループ
-
坂井 信支
東洋合成工業(株)感光材研究所
-
小松崎 敦稔
東京理科大学基礎工学部
-
木津 正二郎
東京理科大学基礎工学部
-
沼田 敦史
キヤノン(株)
-
瀧野 日出雄
EUVA相模原研究開発センタ
-
安藤 学
EUVA宇都宮(旧下丸子)研究開発センタ
-
沼田 敦史
EUVA宇都宮(旧下丸子)研究開発センタ
-
松井 真二
兵庫県立大
-
瀧野 日出雄
(株)ニコン
-
八木 貴弘
東京理科大学基礎工学部
-
八本 貴弘
東京理科大学大学院
-
谷口 淳
東理大
-
竹澤 悟
東理大
-
神田 一浩
姫工大
-
宮本 岩男
東理大
-
河端 雄作
東京理科大学基礎工学部
-
飯田 将道
東京理科大学基礎工学部
-
野村 和司
ニコン
-
八木 幸恵
東京理科大学基礎工学部
-
森 克
東京理科大学基礎工学部
-
清原 修二
山口東京理科大基礎工学科
-
森 克巳
山口東京理科大基礎工学科
-
森 克巳
山口東京理科大学 基礎工
-
高野 登
富山大・工
-
森田 昇
株式会社不二越
-
泉 賢之
東京理科大学基礎工学部
-
松井 真二
姫路工業大学理学部大学院高度研crest-jst
-
廣島 洋
産総研
-
井上 苗土己
東京理科大院
-
土田 智之
(株)エリオニクス
-
伊藤 智義
千葉大学
-
平澤 玉乃
東洋合成工業(株)新規事業開発部ナノテクグループ
-
徳永 誠人
東京理科大学基礎工学部
-
国府 哲也
東京理科大学 基礎工学部
-
功刀 資彰
京都大
-
森田 昇
千葉大学大学院工学研究科
-
森田 昇
富山大学大学院
-
功刀 資彰
京都大学大学院 工学研究科 原子核工学専攻
-
荒木 真
東京理科大学·基礎工学部
-
森田 昇
富山大
-
功刀 資彰
京都大学大学院
-
海野 徳幸
東京理科大学基礎工学研究科
著作論文
- 集束イオンビーム照射と化学エッチングを併用した3次元微細構造形成 : 微細構造形成の高能率化(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- ナノスケール機械加工と化学エッチングを併用した3次元極微細構造形成 : 第3報,エッチング加速作用のFIB照射条件依存性と3次元微細構造形成への応用(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 209 集束イオンビーム照射と化学エッチングを併用した極微細構造形成(OS6 超精密加工)
- ナノスケール機械加工と化学エッチングを併用した3次元極微細構造形成 : 第2報,集束イオンビーム照射を利用した3次元微細構造形成の可能性(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 中空格子構造金型によるUVナノインプリント時の樹脂の充填挙動の観察
- 東京理科大学基礎工学部電子応用工学科 谷口研究室
- ナノインプリント用金型の加工技術
- 光ナノインプリント用光硬化性樹脂とその特性評価法
- ナノテクノロジーとナノインプリント技術について
- 集束イオンビームとアルカリエッチングを併用した極微細加工
- ディジタルホログラフィを用いたマイクロ流れの高時間分解三次元計測に関する研究(流体工学,流体機械)
- ダイヤモンドからの電界電子放出に関する研究 : 電界電子放出素子作製法の開発及び電界電子放出中のダイヤモンド表面の電子論的解析
- 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第4報) -ボロンドープダイヤモンドの加工特性-
- 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第3報) -加工形状のAFM観察-
- 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第2報)-走査速度や加速電圧を変えた場合-
- EUV露光装置用光学素子加工技術の開発
- 118 FIB-CVD法で作製したDLCマイクロ構造体とSi基板間の界面微細構造(材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向)
- ナノインプリント技術のホログラムへの応用
- SOGレジストの電子ビーム露光特性
- FIB-CVD法を用いて作製したDLC膜の微細構造解析
- FIB-CVD法によるDLC成形プロセスとその特性評価(マイクロマテリアル)
- ナノ・マイクロ加工のためのドライエッチング技術
- 三次元ナノインプリントにおける金型作製技術の現状と将来展望 (特集2 ナノインプリント技術の応用と将来展望)
- SOG(Spin On Glass)膜を用いた3次元モールドの作製技術 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
- ナノインプリント技術の足跡 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
- イオンビームと電子ビームを用いたダイヤモンドの微細加工
- 319 SOG をマスクとしたシンクロトロン放射光による微細加工
- 単結晶ダイヤモンドの反応性イオンビーム援用化学加工とXPSによる照射損傷評価
- SOGを用いて製作したダイヤモンドのマイクロ加工
- 先端エネルギビーム加工の原理
- 単結晶ダイヤモンドのリアクティブイオンビーム加工-ナフテン酸金属塩をマスクとした微細パターンの形成-
- ナフテン酸金属塩の酸素イオンビーム加工特性
- C112 Micro digital-holographic PTVによるマイクロ流路内高時間分解3次元計測(OS-11 ナノスケール伝熱I)
- 表面活性化接合によるナノインプリントリソグラフィー
- ダイヤモンドを用いたナノインプリントリソグラフィ
- 圧力印加による新半導体リソグラフィー技術
- ナノインプリント技術の現状
- D235 イオン表面衝突過程における2次電子へのエネルギー伝達に関する量子分子動力学解析(分子動力学1)
- A224 イオン表面衝突過程における電子へのエネルギー伝達に関する量子分子動力学解析(マイクロ・ナノスケール7)
- A131 大規模分子動力学を用いた集束イオンビームにおけるナノ領域スパッタリング(マイクロ・ナノスケール3)
- 水素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第1報) -ダイヤモンド(110)面の加工特性-
- 酸素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第5報) -電子ビームの照射面積を広くした場合-
- 電子・集束イオンビーム援用化学加工によるダイヤモンドの微細加工:電子ビームとイオンビームにおける加工特性の違い
- ダイヤモンドのイオンビーム・電子ビーム加工
- スピンオングラスをマスクとしたダイヤモンドの微細加工
- 電子・集束イオンビーム援用化学加工によるダイヤモンドの微細加工
- 高精度表面加工技術の動向 (特集 ナノ加工・ナノ計測)
- 電子ビーム援用化学加工山法によるダイヤモンドの微細パターン形成
- レジストプロセスを用いた単結晶ダイヤモンドの微細加工
- 酸素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第1報) : 加工特性と線や矩形パターンの作製
- 酸素ガスを用いたダイヤモンドの電子ビーム援用化学加工(第4報)-加速電圧を変えた場合-