中村 淳 | 電通大電子
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概要
関連著者
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中村 淳
電通大電子
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名取 晃子
電通大電子
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名取 晃子
電気通信大学電子工学科
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中村 淳
電通大
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中村 淳
電通大院先進理工:電通大電子
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名取 晃子
電通大
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中村 淳
早大材研
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大坂 敏明
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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大坂 敏明
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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大坂 敏明
早稲田大 理工
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平山 基
電通大電子
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中村 淳
電気通信大学電気通信学部電子工学科
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大坂 敏明
早大理工:早大材研
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大坂 敏明
早稲田大学理工学部
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中村 淳
電気通信大学大学院先進理工学専攻
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大坂 敏明
早大理工
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名取 晃子
電気通信大学電気通信学研究科電子工学専攻
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名取 晃子
電気通信大学
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大竹 晃浩
独立行政法人 物質・材料研究機構ナノマテリアル研究所
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中村 淳
早大理工
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家富 洋
新潟大理
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中村 淳
理研
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涌井 貞一
電通大電子
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大竹 晃浩
物材機構
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新田 敏浩
電通大
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中村 淳
新潟大自然
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渡邉 聡
東大院工
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渡邊 聡
東大院工
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青野 正和
物材機構mana
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小舘 香椎子
日本女子大学理学研究科数理・物性構造科学専攻
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住友 弘二
NTT物性科学基礎研究所 機能物質科学研究部 分子生体機能研究グループ
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庄司 一郎
中央大
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荻野 俊郎
横国大
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荻野 俊郎
横浜国立大学大学院工学研究院
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小舘 香椎子
日本女子大学 理学部数物科学科
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住友 弘二
Ntt物性科学基礎研究所
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張 朝暉
北京大学
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小舘 香椎子
日本女子大学理学部数物科学科
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荻野 俊郎
NTT物性基礎研
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青野 正和
大阪大学大学院工学研究科精密科学専攻
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尾身 博雄
NTT物性科学基礎研究所
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張 朝暉
NTT物性科学基礎研究所
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石原 俊介
電通大
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尾身 博雄
Ntt物性基礎研
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小舘 香椎子
日本女子大学
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門平 卓也
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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井上 純一
北海道大学大学院情報科学研究科
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大竹 晃浩
物質・材料研究機構量子ドットセンター
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青野 正和
理研
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渡邊 聡
東大工
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渡邉 聡
東京大学大学院工学系研究科材料学専攻
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井上 純一
物材機構計算科学センター
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高井 まどか
「応用物理」編集委員会
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高井 まどか
東大
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江口 豊明
東大物性研:アウクスブルグ大
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江口 豊明
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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井上 純一
電通大電子
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江口 豊明
早大理工
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小口 信行
物質・材料研究機構
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大坂 敏明
早大材研:早大理工
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名取 研二
筑波大物工
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門平 卓也
東大工:科学技術振興機構crest
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伊藤 潤
電気通信大学電子
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清水 共
筑波大物工
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坂野井 和代
駒澤大
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青木 画奈
東大生研
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五十嵐 正典
電通大電子
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山田 太一
電通大電子
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大竹 晃浩
物質・材料研究機構
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大野 景太
電通大
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石原 俊介
電通大電子
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趙 星彪
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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原 尚子
早稲田大学理工学部物理開発工学科
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成瀬 延康
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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津村 徳道
千葉大学 工学部 情報画像工学科
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川原田 洋
早大理工
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石原 宏
東京工業大学
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河野 明廣
名大工
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堀井 滋
高知工大環理工
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下山 淳一
東大院工
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岸尾 光二
東大院工
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堀井 滋
東大院工
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尾浦 憲治郎
大阪大学大学院
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岩本 光正
東工大
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渡邉 恵理子
日本女子大学
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近藤 高志
東大
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田中 倫子
東大工
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奥村 次徳
首都大学東京大学院理工学研究科
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岸尾 光二
東大工:jst-trip
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小口 信行
物・材機構
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山田 明
東工大
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門平 卓也
科学技術振興機構CREST
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渡邉 聡
科学技術振興機構CREST
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津村 徳道
千葉大
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津村 徳道
千葉大学大学院工学部
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岩本 敏
東大ナノ量子機構
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千葉 朋
電通大電子
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櫻井 亮
物材機構MANA
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吉野 淳二
東工大院理工
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小口 信行
物材機構
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白木 靖寛
都市大総研
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山口 翔
電気通信大学
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石榑 崇明
慶応大
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駒井 友紀
日本女子大学理学部
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五明 明子
日本電気
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駒井 友紀
日本女子大学 理学部数物科学科
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駒井 友紀
日本女子大
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尾浦 憲治郎
阪大工
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槌田 博文
オリンパス(株)
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谷川 ゆかり
産総研
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渡邉 恵理子
日本女子大学 理学部
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石原 宏
東工大
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石川 和枝
上智大
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菅谷 綾子
ニコン
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島田 純子
科学技術振興機構
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下川 貴久技
KickE
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下山 淳一
東京大学大学院 工学系研究科
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大島 忠平
早稲田大学 各務記念材料技術研究所
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大島 忠平
早大材研
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大島 忠平
早稲田大学理工学部
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大竹 晃浩
早大理工
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白木 靖寛
東京都市大学(旧武蔵工業大学)
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中川 明久
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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大坂 敏明
早稲田大学
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尾浦 憲治郎
阪大
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大島 忠平
早大材研
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吉野 淳二
東工大
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吉野 淳二
東工大・工
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白木 靖寛
東京都市大学
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岩本 敏
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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岩本 敏
東大
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川原 田洋
早大理工
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田中 倫子
東大
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塚本 史郎
金材技研
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趙 星彪
名大理工総研
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成瀬 延康
早大材研
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中川 明久
早大理工
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Kocan P.
物質・材料研究機構:カレル大学
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Kocan P.
物質・材料研究機構:カレル大(チェコ共和国)
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石原 宏
東工大工
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大坂 敏明
早大・理工
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中村 美道
東大工:科技団crest
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近藤 優樹
東大工
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三浦 義弘
早稲田大学理工学部物質開発工学科
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奥村 次徳
首都大学東京
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高井 まどか
東大院工
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平山 基
電気通信大学電気通信学研究科電子工学専攻
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江口 俊輔
電通大電子
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挾間 裕一
電通大電子
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齋藤 浩一
電通大
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横田 有為
東大院工
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尾形 哲朗
東大院工
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中村 淳
東大院工
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小林 伸彦
理研
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櫻井 亮
東大工
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渡邉 聡
阪大工
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青野 正和
科技団
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岩本 光正
東京工業大学
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塚本 史郎
物質・材料研究機構
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Iwamoto Mitsumasa
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
Iwamoto Mitsumasa
Dept. Of Phys. Elec Tokyo Tech.
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中澤 秀司
早大理工
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中島 博
早大理工
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大竹 晃浩
早大・理工
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中村 淳
早大・理工
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此木 秀和
早大理工
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山田 明
東工大量子セ
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門平 卓也
早大理工
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三浦 義弘
早大理工
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河野 明廣
名古屋大学
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河野 明廣
名大
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槌田 博文
オリンパス
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桝 日向
電通大電子
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湧波 信弥
電通大
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名取 諭史
電通大
-
渡会 雅敏
電気通信大学
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新田 敏浩
電通大電子
-
大野 景太
電通大電子
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瀬下 裕也
電通大
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中村 淳
新潟大学自然科学研究科
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近藤 優樹
東大工:科技団crest
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小林 伸彦
筑波大学物理工学系
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五明 明子
Nec基礎・環境研究所
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島田 純子
科学技術振興事業団
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中村 美道
東大工:
著作論文
- 21aHW-4 Si/SiO_2量子井戸内D-イオン束縛エネルギーの井戸幅依存性 : valley-orbit相互作用効果(21aHW 量子井戸・超格子・光応答,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- Au/InSb(111)A系における合金形成過程
- 22pGL-5 GaAs(110)表面上のMnAs単分子層膜の磁性(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aGL-7 HfO_2・SiO_2薄膜における酸素欠損近傍の局所誘電率評価(21aGL 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pYE-7 SiC多形超薄膜の誘電特性(表面・界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 人材育成・男女共同参画委員会, 刊行委員会, JJAP編集運営委員会共同企画シンポジウム : 「学会における若手人材育成-応物があなたのキャリアデザインを応援します-」報告
- 22pGL-5 GaAs(110)表面上のMnAs単分子層膜の磁性(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 博士のキャリア相談会 : トライアル開催の報告
- 22pPSB-23 酸素吸着グラフェンの構造安定性と凝集性質(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pTA-12 グラフェンリボンのバリスティック熱コンダクタンス(22pTA 領域7,領域4合同 グラフェン・電子物性,領域7(分子性固体・有機導体))
- 23aWH-14 多谷半導体中のD^-基底状態 : 磁場効果(量子ホール効果,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 24aXL-1 D^-基底状態の拡散量子モンテカルロ計算 : 有効質量異方性及び多谷効果(24aXL 量子井戸・超格子,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 人材育成
- 27pYQ-3 Si(111)-(√×√)-Ag表面の相転移とSTM像のシミュレーション
- 25pWF-11 ナノスケールの摩擦機構 : ティップサイズ効果(粉体・摩擦・地震,領域11,統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理)
- 人材育成・男女共同参画委員会第8回ミーティング報告"博士『後』のキャリアを考える"
- RHEEDロッキングカーブを用いたSi(111)√3×√3R30°-Au表面の構造解析
- 23aWS-9 Sb安定化GaSb(001)-(2x5)表面の原子配列(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 人材育成・男女共同参画委員会第9回ミーティング報告 : 博士『後』のキャリアを考える2
- 「若手技術者・研究者の多様なキャリアパス」を通して
- GaAs(110)表面上のGa置換Mn原子鎖のスピン状態と電子状態
- 23aXB-1 GaAs(001)-(2×4)-Sb吸着構造の再検討(23aXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aXA-14 GaAs(110)表面上のGa置換Mnナノワイヤの原子配置とスピン・電子状態(20aXA 領域9,領域3合同 表面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aXA-14 GaAs(110)表面上のGa置換Mnナノワイヤの原子配置とスピン・電子状態(20aXA 領域9,領域3合同 表面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pVC-4 異方的な超微粒子分散媒質の高周波電気伝導特性(21pVC 確率過程・確率モデル,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))
- 25pTD-3 SiO_2/Si(001)界面におけるナノスケール誘電特性の第一原理計算(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 26pTD-9 不純物ドープSi(111)表面のSTM像の第一原理計算II : STM像の不純物原子種依存性(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22aPS-124 グラフェンのバリスティック熱伝導特性(領域4ポスターセッション,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 23pWG-8 La_Sr_xMnO_単結晶の結晶構造と磁気特性の過剰酸素量依存性(Mn酸化物,領域8,強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など)
- 18pTG-9 第一原理計算によるSiO_2/Si(001)界面のナノスケール誘電特性評価(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 18pTG-10 不純物ドープSi(111)表面のSTM像の第一原理計算(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aTG-9 酸素吸着グラフェンの構造双安定性の第一原理計算(ナノチューブ・ナノワイヤー,表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 15pXG-4 As 安定化 GaAs(001)-c(4×4) 表面における安定および準安定構造(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 27pY-7 Si(001)2x1Ag吸着表面の第一原理計算による評価
- 25pWB-7 ジグザグ金原子鋼の双安定性
- 28pPSB-27 GaAs(001)-c(4x4) 表面上における Ga-As dimer の欠陥構造
- Ge/Si(113)-2×2表面の構造安定性と応力異方性
- 31aWD-8 Ge/Si(113)-2×2 表面の応力異方性
- 19pPSB-38 Ge/Si(113)-2x2表面の構造安定性
- 22pYE-3 グラフェンシートの酸素吸着と拡散過程の第一原理計算(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 7a-PS-40 h-BN/Ni(111)界面における化学結合状態
- 6p-B-11 α-Sn(111)-(2x2)表面の構造と電子状態II
- 5a-H-11 α-Sn(111)-(2×2)表面の構造と電子状態I
- 29a-PS-36 InSb(111)B-2×2表面の最適化構造とその電子状態
- Ge/Si(111)-Sb系表面変性エピタキシ-
- GaAs(111)A-2×2表面の電子状態と構造安定性
- 30a-PS-29 RHEED rocking curveを用いたInSb{111}A, B表面の構造解析
- 5a-Q-10 Si(111)表面上のGe擬形態層に及ぼすSbの効果
- 14a-DJ-5 単原子層グラファイト/SiC(111)系不整合界面における電荷移動機構
- 26aPS-26 第一原理擬ポテンシャル法によるSi(111)-(√x√)R30°-Sn表面の評価
- 28pWP-3 第一原理計算によるAu/Si(111)-α(√×√)表面構造の研究(表面界面構造(半導体))(領域9)
- 18pWH-4 有限温度原子レベル摩擦機構 : 1次元Tomlinsonモデルによる解析(領域9,領域10合同シンポジウム ナノスコピック系の摩擦の物理:摩擦の素過程と制御,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 23pYH-3 原子摩擦力の速度飽和機構(23pYH 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 29pXJ-1 Si(111)双晶境界近傍の局所的誘電率変化(29pXJ 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 29pXB-13 縦型2重量子ドットのスピン結合と磁場制御(29pXB 量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 21aPS-51 原子レベルの摩擦機構(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aYE-7 SiO_2超薄膜の誘電特性(表面ナノ構造量子物性,ナノチューブ・ナノワイヤ,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 半導体超薄膜の誘電特性
- 27aXD-9 BNリボンの磁性II(ナノワイヤ・ナノチューブ,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 24aPS-145 2次元シリコン化合物の原子構造と電子状態(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 27aYA-11 原子・イオンの多重極分極率に対する相対論的効果 : 密度汎関数計算(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 男女共同参画第6回ミーティング報告 : 若手からの提言「多様化するライフスタイルとキャリアプラン」
- 15aTE-8 密度汎関数法による原子多重極分極率の計算 : 自己相互作用補正(原子・分子, 領域 1)
- 15pXG-14 Si(001)-2×1 ダイマー表面におけるフリップフロップ運動の外部電場依存性(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 15aPS-81 BN リボンの磁性(領域 9)
- 15aPS-10 ヘテロ基板上原子クラスタのマジックサイズと摩擦(領域 9)
- 15aPS-9 超微粒子分散媒質の高周波電気伝導特性(領域 9)
- 14aXG-3 Si 超薄膜の誘電特性 II(表面界面電子物性, 領域 9)
- 15pXA-5 アルカリ金属および貴金属イオンの多重極分極率(超イオン伝導体・イオン伝導体, 領域 5)
- 30aWP-5 Si超薄膜の誘電特性(ナノ構造量子物性)(領域9)
- 29pYA-7 2重量子ドットのスピン結合(量子ドット(伝導理論・スピン効果・量子リング))(領域4)
- 極薄SiO_2/Si界面のエネルギー障壁の第一原理計算
- 22aYD-10 半導体超薄膜の誘電率の第一原理計算
- 20aPS-62 不整合ヘテロエピタキシャル島のナノトライボロジー
- 20aPS-20 超薄膜の外部静電場応答特性の第一原理的評価
- 20pTE-15 重い原子・イオンの多重極分極率
- 30pZP-11 2 重量子ドットのスピン結合制御
- 22aBA-2 閉核イオン・原子の多重極分極率