GaAs(111)B基板上に形成されたAlGaAs/GaAs量子構造のSi界面制御層による表面不活性化(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
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概要
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GaAs(111)B面上に形成した量子構造の表面を, Si界面制御層を用いて不活性化する方法について検討した.試料作製工程各段階における試料表面に対するXPSと, 作製された構造に対するPL測定を行った.GaAsおよびAlGaAs(111)B面の表面フェルミ準位位置はSi界面制御層の形成により伝導帯側へ移動した.また, 表面を不活性化していない試料においては, 表面と量子構造との距離の縮小に伴い量子構造からのPL発光強度が低下したが, Si界面制御層を用いて表面を不活性化した試料においては, 量子構造からのPL発光強度の回復が見られた.
- 2005-06-03
著者
-
長谷川 英機
北海道大学工学研究科、量子界面エレクトロニクス研究センター及び集積電子デバイス工学分野
-
佐藤 威友
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター
-
赤澤 正道
北海道大学
-
長谷川 英機
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター
-
Hasegawa Hideki
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Hokkaido University:department Of Electr
-
Hasegawa Hideki
Research Center For Interface Quantum Electronics And Faculty Of Engineering Hokkaido University:fac
-
長谷川 英機
北海道大学
-
Hasegawa H
自治医科大学 臨床検査医学
-
塩崎 奈々子
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センターおよび情報科学研究科
-
Honda Hideyuki
The Faculty Of Medical Science And Welfare Tohoku Bunka Gakuen University
-
塩崎 奈々子
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター
-
赤澤 正道
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター
-
Akazawa M
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
Akazawa Masamichi
Graduate School Of Engineering Hokkaido University
-
Akazawa Masamichi
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering And Research Center For Interface Quantu
-
Akazawa Masamichi
Department Of Electrical Engineering Hokkaido University
-
Akazawa Masamichi
Research Center For Interface Quantum Electronics And Department Of Electrical Engineering Hokkaido
-
赤澤 正道
北海道大学情報科学研究科量子集積エレクトロニクス研究センター
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