A Novel Silicon-Dioxide Etching Process Employing Pulse-Modulated Electron-Beam-Excited Plasma
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概要
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- Japan Society of Applied Physicsの論文
- 2004-09-15
著者
-
堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
Hori Masaru
Department Of Quantum Engineering Nagoya University
-
伊藤 昌文
名城大学理工学部
-
YAMAKAWA Koji
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
-
TOMEKAWA Yutaka
Faculty of System Eng., Wakayama University
-
ITO Masafumi
Faculty of System Eng., Wakayama University
-
TAKEDA Keigo
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
-
IWASAKI Masahiro
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
-
OHTA Takayuki
Faculty of Systems Engineering, Wakayama University
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