レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-01-01
著者
-
堀 勝
名古屋大学
-
小林 重人
名古屋大学工学研究科
-
後藤 俊夫
名古屋大学化学科
-
堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
伊藤 昌文
名古屋大学工学研究科
-
藤田 和司
名古屋大学工学研究科
-
Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
-
後藤 俊夫
名古屋大学 工学研究科量子工学専攻
-
後藤 俊夫
Imram Tohoku University
-
後藤 俊夫
名古屋大学
関連論文
- 9. フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 7. 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 1. はじめに(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌機構に関する考察
- マイクロホローカソードプラズマを用いた金属原子密度測定のための吸収分光用光源の開発
- 非平衡大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌メカニズムの検証
- Mass Spectrometryによる製剤分析(第7報) : 解熱鎮痛剤の分析その3 : フェナセチン, ピリナジン, パスの高分解能質量スペクトル
- 5.低誘電率(Low-k)材料のドライエッチング(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの成長(有機結晶の新展開)
- ECR C_4F_8プラズマにおけるCFxラジカル絶対密度の空間分布の計測とその分布形成機構
- CFxラジカル絶対密度のIRLAS空間分布測定
- C-4-9 光ファイバーのラマンシフトにより波長変換したフェムト秒ソリトンパルスの第2次高調波発生
- ディジタル信号処理FMヘテロダイン干渉法による近距離検出
- フォトサーマル効果を用いた近接距離検出法
- 円形回折格子のレーザ回折光を用いた基準位置検出法
- シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成
- CARSによるArFエキシマレーザー放電中のF_2密度測定
- 放電励起ArFレーザプラズマ中の電子密度計測
- 低温多結晶シリコン薄膜の成長表面の評価
- ECR水素 プラズマアニール過程の in situ PM-IR-RAS 観察
- コヒーレント光注入によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- Er添加光ファイバ増幅器の増幅自然放出光を用いたインコヒーレント光干渉計の距離分解能の検討
- インコヒーレント光を用いた反射光計測による DFB-LDの実効利得測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDの端面反射率測定
- 活性層光混合法におけるLD変調周波数特性の注入光波長依存性 (II)
- プラズマCVD法を用いたカーボンナノウォールの形成
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討(有機材料,一般)
- プラズマ技術とバイオアプリケーション--非平衡大気圧プラズマのミドリカビ殺菌への応用 (特集 生体触媒研究の新潮流)
- ラジカル制御プラズマとその応用
- 大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の高速加工
- プラズマ中のラジカル制御によるカーボンナノウォールの合成
- 21409 プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォールの高速成長及び表面積制御(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 高密度プラズマプロセッシングの現状と将来展望(高密度プラズマとその応用技術の最前線)
- フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成
- 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発
- 「高度総合工学創造実験」による創造性教育の実践
- OHラジカル注入によって形成したダイヤモンド薄膜のSTM/STS解析
- レーザーアブレーションを用いた環境調和型チャンバークリーニングプロセス
- レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御
- C-4-40 cw 光注入による Fabry-Perot LD 内の四光波混合光の偏波特性
- 非線形偏光干渉計を用いた光子数スクイズド光生成の量子論的解析
- C-4-33 Fabry-Perot LD の全光制御モード同期法における cw 注入光の偏波依存性
- 予備変調方式による高調波モード同期ファイバリングレーザのリング長制御
- cw 光注入による Fabry-Perot LD の全光制御モード同期法の特性と二分周動作への応用
- C-4-34 Fabry-Perot LDを用いた連続光注入によるモード同期における出力パルス整形法の検討
- C-4-33 多縦モード発振Fabry-Perot型半導体レーザ間の注入同期に関する実験検討
- C-4-14 予備変調方式による高調波モード同期ファイバリングレーザのリング長補償
- C-4-13 Fabry-Perot LDの全光制御モード同期における外部共振器の効果 (II)
- C-4-12 Fabry-Perot LDにおけるモード同期光パルス列の分周動作のPLLモデルによる解析
- B-13-13 広帯域波長可変超短パルス光源を用いた光ファイバの波長分散測定法に関する検討
- C-4-5 外部共振器を用いたFabry-Perot LDの自己モード同期による高繰り返し光パルス列の生成
- C-4-4 連続光注入による共振器長900μm Fabry-Perot LDの全光制御モード同期における繰り返し周波数の制御
- C-4-2 予備変調方式を用いた高調波モード同期ファイバリングレーザの出力パルス列のパワースペクトル密度による動作特性評価法
- 連続光注入によるFabry-Perot LDの全光制御モード同期の動作特性
- 予備変調方式による高調波モード同期ファイバリングレーザの高繰り返し化(II)
- LD相互注入同期のPLLモデルによる動作解析
- C-4-28 二縦モード間の相互注入同期を用いたFabry-Perot LDの全光モード同期(II)
- C-4-26 四光波混合を用いたFabry-Perot LDの縦モード注入同期によるWDM用予備光源
- 予備変調方式による高調波モードロックファイバリングレーザのAM振幅補償実験
- 2.12GHzで安定化したハーモニックモードロックファイバリングレーザ
- C-4-4 多縦モード発振Fabry-Perot LDのスペクトル線幅狭窄化に関する実験検討(C-4. レーザ・量子エレクトロニクス(半導体レーザ), エレクトロニクス1)
- GHz帯位相同期ループとその関連技術に関する検討(工学部:電気学科 電気工学専攻・電子工学専攻・情報通信工学専攻)
- 全光制御モード同期法におけるスペクトル線幅狭窄化と主縦モード間相互注入同期の観測(工学部:電気学科 電気工学専攻・電子工学専攻・情報通信工学専攻)
- プラズマ誘起表面科学の魅力
- Hラジカルを導入したRF CH3OHプラズマによるダイヤモンドの形成
- パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成
- マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光法による原子密度計測
- 赤外半導体レーザー吸収分光による半導体プロセスモニタリング
- 6.マイクロ放電光源を用いたプラズマ吸収分光計測(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の超高速エッチングおよびカーボンナノチューブの形成
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いた超高速加工技術
- 5 システムLSIにおける低誘電率層間絶縁膜エッチング(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- スマートプラズマプロセス
- 5. RFプラズマCVDによるカーボンナノウォールの配向成長(プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題)
- ドライエッチング
- 液中プラズマを用いたナノグラフェンの高速合成技術 (特集 「グラフェン」の実務的な視点での開発トレンド)
- プラズマCVD法によるカーボンナノウォールの制御合成
- SR光によるCF_2薄膜およびフロライド金属薄膜の微細加工
- 「プラズマの世界」の実施状況
- 第7回 「科学と生活のフェスティバル」 報告
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用
- 6. フルオロカーボンラジカル(CF_x)の表面反応過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- ECR SiH_4プラズマ中のSi原子及びイオンの挙動
- リモート酸素プラズマを併用したポリシロキサンのレーザ蒸着
- ECR SiH_4プラズマプロセスにおけるラジカルの計測
- O_2/N_2ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるソルダーレジストとドライフィルムの表面改質
- 暮らし・環境・バイオとプラズマ
- 第71回応用物理学会学術講演会(2010年秋季)
- 複数金属元素同時モニタリング光源を用いた吸収分光法による透明導電膜成膜スパッタリングプロセスの診断
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
- トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル混合ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるビア底残渣のドライデスミア
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中の非接触ウエハ温度計測
- タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析
- Dry De-smear of Via Bottom Residue Using 60 Hz Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma with Trifluoromethyle Trifluorovinyl Ether Mixing Gas
- 4槽回転型プラズマ成膜現像電子線真空リソグラフィ装置 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)