高密度プラズマプロセッシングの現状と将来展望(<特集>高密度プラズマとその応用技術の最前線)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2007-09-05
著者
-
堀 勝
名古屋大学
-
堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
Hiramatsu M
Nano Factory Graduate School Of Science And Technology Meijo University
-
Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
関連論文
- 9. フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 7. 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 1. はじめに(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌機構に関する考察
- マイクロホローカソードプラズマを用いた金属原子密度測定のための吸収分光用光源の開発
- 非平衡大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌メカニズムの検証
- 5.低誘電率(Low-k)材料のドライエッチング(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの成長(有機結晶の新展開)
- ECR C_4F_8プラズマにおけるCFxラジカル絶対密度の空間分布の計測とその分布形成機構
- CFxラジカル絶対密度のIRLAS空間分布測定
- Growth and Energy Bandgap Formation of Silicon Nitride Films in Radical Nitridation
- シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成
- 低温多結晶シリコン薄膜の成長表面の評価
- ECR水素 プラズマアニール過程の in situ PM-IR-RAS 観察
- プラズマエレクトロニクス分科会
- プラズマCVD法を用いたカーボンナノウォールの形成
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討(有機材料,一般)
- プラズマ技術とバイオアプリケーション--非平衡大気圧プラズマのミドリカビ殺菌への応用 (特集 生体触媒研究の新潮流)
- ラジカル制御プラズマとその応用
- 大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の高速加工
- プラズマ中のラジカル制御によるカーボンナノウォールの合成
- 21409 プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォールの高速成長及び表面積制御(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 21408 プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォールの成長メカニズム(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 高密度プラズマプロセッシングの現状と将来展望(高密度プラズマとその応用技術の最前線)
- フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成
- カーボンナノウォールを用いた新機能デバイスの開発
- カーボンナノウォールの超精密形成と機能デバイスへの応用
- 科学解説 ラジカル制御CVD法によるカーボンナノウォールの成長
- Fabrication of Carbon Nanowalls Using Novel Plasma Processing
- 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発
- アドバンストテクノロジー開発最前線 新規エッチングガスを用いた半導体微細加工プロセス
- Growth of Carbon Nanotubes by Microwave-excited Non-Equilibrium Atmospheric-Pressure Plasma
- Diamond Film Formation by OH Radical Injection from Remote Microwave H_2/H_2O Plasma into Parallel-Plate RF Methanol Plasma
- High-Rate Anisotropic Ablation and Deposition of Polytetrafluoroethylene Using Synchrotron Radiation Process
- Synthesis of Diamond Using RF Magnetron Methanol Plasma Chemical Vapor Deposition Assisted by Hydrogen Radical Injection
- Measurement of Absolute Densities of Si, SiH and SiH_3 in Electron Cyclotron Resonance SiH_4/H_2 Plasma ( Plasma Processing)
- Study on the Absolute Density and Translational Temperature of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiH_4 Plasma with Ar, N_2, and H_2 Dilution Gases
- A Novel Silicon-Dioxide Etching Process Employing Pulse-Modulated Electron-Beam-Excited Plasma
- Effects of Ar Dilution and Exciting Frequency on Absolute Density and Translational Temperature of Si Atom in Very High Frequency-Capacitively Coupled SiH_4 Plasmas
- Effects of Driving Frequency on the Translational Temperature and Absolute Density of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiF_4 Plasmas
- OHラジカル注入によって形成したダイヤモンド薄膜のSTM/STS解析
- Electrical Characterization of Carbon Nanowalls
- レーザーアブレーションを用いた環境調和型チャンバークリーニングプロセス
- レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御
- High Performance of Silicon Oxide Selective Etching Using F_2 Gas and Graphite Instead of Perfluorinated Compound Gases
- Diamond Deposition and Behavior of Atomic Carbon Species in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma
- Behaviors of carbon atom density in hydrocarbon and fluorocarbon plasmas
- プラズマ誘起表面科学の魅力
- Hラジカルを導入したRF CH3OHプラズマによるダイヤモンドの形成
- パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成
- マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光法による原子密度計測
- 赤外半導体レーザー吸収分光による半導体プロセスモニタリング
- 6.マイクロ放電光源を用いたプラズマ吸収分光計測(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の超高速エッチングおよびカーボンナノチューブの形成
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いた超高速加工技術
- 5 システムLSIにおける低誘電率層間絶縁膜エッチング(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- プラズマ化学気相堆積法を用いたカーボンナノウォールの作製
- スマートプラズマプロセス
- 5. RFプラズマCVDによるカーボンナノウォールの配向成長(プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題)
- プラズマ化学気相堆積法を用いたカーボンナノウォールの形成
- カーボンナノウォールの合成と合成装置の実用化開発 (特集 放電学会春季合同シンポジウム「未来を拓く放電技術」) -- (プラズマを用いたナノカーボン創製と応用)
- スマートプラズマナノプロセスの開発 (特集 プラズマ科学の開発と応用)
- ドライエッチング
- Large-Capacity and High-Speed Magnetic Field Modulation Recording for 3.5" Magneto-Optical Disk Drive : Drive Technology
- Cleaning of Glass Disk in Oxygen Plasma by Using Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source
- Measurement of Spatial Distribution of SiF_4 and SiF_2 Densities in High Density SiF_4 Plasma Using Single-Path Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy and Laser-Induced Fluorescence Technique
- Spatial Distribution Measurement of Absolute Densities of CF and CF_2 Radicals in a High Density Plasma Reactor Using a Combination of Single-Path Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy and Laser-Induced Fluorescence Technique
- 液中プラズマを用いたナノグラフェンの高速合成技術 (特集 「グラフェン」の実務的な視点での開発トレンド)
- プラズマCVD法によるカーボンナノウォールの制御合成
- Growth of Preferentially Oriented Microcrystalline Silicon Film Using Pulse-Modulated Ultrahigh-Frequency Plasma
- Deposition of Diamond-Like Carbon Using Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source
- Investigation of Nitrogen Atoms in Low-Pressure Nitrogen Plasmas Using a Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source
- SR光によるCF_2薄膜およびフロライド金属薄膜の微細加工
- 「プラズマの世界」の実施状況
- 第7回 「科学と生活のフェスティバル」 報告
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用
- 6. フルオロカーボンラジカル(CF_x)の表面反応過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- ECR SiH_4プラズマ中のSi原子及びイオンの挙動
- リモート酸素プラズマを併用したポリシロキサンのレーザ蒸着
- ECR SiH_4プラズマプロセスにおけるラジカルの計測
- O_2/N_2ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるソルダーレジストとドライフィルムの表面改質
- 開発事例 プラズマCVD法を活用した高品質の配向性多結晶シリコン薄膜形成 (特集 最新 薄膜形成技術と用途展開)
- CLOSE UP 先端に、人 カーボン系ナノ構造体・カーボンナノウォールの量産化に向けた研究開発を推進--名古屋大学大学院 工学研究科 電子情報システム専攻 教授 堀勝
- 暮らし・環境・バイオとプラズマ
- 第71回応用物理学会学術講演会(2010年秋季)
- Synthesis of Fluorinated SiN_x Gate Dielectric Films Using ECR-PECVD Employing SiF_4/N_2/H_2 Gases
- Ultrathin Fluorinated Silicon Nitride Gate Dielectric Films Formed by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Employing NH_3 and SiF_4
- Control of Ion Bombardment and Species for Ultra Low Temperature Formation of Silicon Nitride Gate Dielectric Films Using Plasma Chemical Vapor Deposition
- 複数金属元素同時モニタリング光源を用いた吸収分光法による透明導電膜成膜スパッタリングプロセスの診断
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
- Inactivation of Penicillium digitatum Spores by a High-Density Ground-State Atomic Oxygen-Radical Source Employing an Atmospheric-Pressure Plasma
- トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル混合ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるビア底残渣のドライデスミア
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中の非接触ウエハ温度計測
- タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析
- VIII-4 カーボンナノウォールの合成と応用(シンポジウムVIII:カーボンプロセスにおけるプラズマ誘起サブサーフェス科学の新展開)
- Dry De-smear of Via Bottom Residue Using 60 Hz Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma with Trifluoromethyle Trifluorovinyl Ether Mixing Gas
- 4槽回転型プラズマ成膜現像電子線真空リソグラフィ装置 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)