プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの成長(<小特集>有機結晶の新展開)
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概要
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ラジカル注入プラズマCVD法,すなわち,炭素源ガスを容量結合型高周波プラズマによって励起・分解し,水素分子の解離に適した誘導結合型プラズマにより生成した大量の原子状水素を基板付近に注入するという手法を用いて,基板に対して垂直に成長する厚さ数10nmの薄いシート状構造物,カーボンナノウォールの製造を行った.ガスの種類や水素原子の注入量など,製造条件が構造物のモフォロジーに与える影響について検討を行った.また,マイクロ波プラズマCVD法を用いて,カーボンナノフレークの製造を行った.これら新規カーボンナノ構造体は,垂直に立つグラファイトの薄い壁とその広い表面積が特徴である.電子放出特性を有するなど,今後様々な分野への応用が期待される.
- 2005-12-31
著者
-
堀 勝
名古屋大学
-
堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
平松 美根男
名城大学理工学部電気電子工学科
-
Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
-
平松 美根男
ナノファクトリー・名城大学理工学部電気電子工学科
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