21409 プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォールの高速成長及び表面積制御(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
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概要
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Carbon nanowalls (CNWs), two-dimensional carbon nanostructures with edges, were fabricated by the radical injection plasma enhanced chemical vapor deposition (RI-PECVD) system. CNWs consist of graphene sheets standing vertically on the substrates, forming wall structure with high aspect ratio. CNWs possess good thermal and electrical conductivity and large surface area. Thus, CNWs are expected to be applied to the electron sources, the gas storages, the fuel cells and so on. In order to apply CNWs to the various kinds of devices, the morphology of CNWs should be controlled according to the structures of devices. We investigated the morphology control of CNWs by changing the plasma condition and found that the morphology of CNWs was dependent on the power. From the redults, we propose the growth model of CNWs.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2008-03-13
著者
-
堀 勝
名古屋大学
-
堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
山川 晃司
片桐エンジニアリング
-
堀 勝
名大院工
-
平松 美根男
名城大学理工学部電気電子工学科
-
柏原 雅好
名大
-
丸山 茂敏
名大
-
Hiramatsu M
Nano Factory Graduate School Of Science And Technology Meijo University
-
Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
-
平松 美根男
名城大学・理工
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