第7回 「科学と生活のフェスティバル」 報告
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-11-10
著者
関連論文
- 9. フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 7. 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 1. はじめに(材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
- 大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌機構に関する考察
- マイクロホローカソードプラズマを用いた金属原子密度測定のための吸収分光用光源の開発
- 非平衡大気圧プラズマを用いたミドリカビの殺菌メカニズムの検証
- ハーモニック電子サイクロトロン共鳴マイクロプラズマ源の開発
- 5.低誘電率(Low-k)材料のドライエッチング(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの成長(有機結晶の新展開)
- ECR C_4F_8プラズマにおけるCFxラジカル絶対密度の空間分布の計測とその分布形成機構
- CFxラジカル絶対密度のIRLAS空間分布測定
- シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成
- 低温多結晶シリコン薄膜の成長表面の評価
- ECR水素 プラズマアニール過程の in situ PM-IR-RAS 観察
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験 (続報, 長尺透明伝熱管の導入と限界熱流束の測定)
- プラズマCVD法を用いたカーボンナノウォールの形成
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討(有機材料,一般)
- プラズマ技術とバイオアプリケーション--非平衡大気圧プラズマのミドリカビ殺菌への応用 (特集 生体触媒研究の新潮流)
- ラジカル制御プラズマとその応用
- 大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の高速加工
- プラズマ中のラジカル制御によるカーボンナノウォールの合成
- 21409 プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォールの高速成長及び表面積制御(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 高密度プラズマプロセッシングの現状と将来展望(高密度プラズマとその応用技術の最前線)
- フルオロカーボンプラズマを用いたナノ構造体の形成
- 環境調和型ゼロエミッション・リサイクルナノエッチングプロセスの開発
- 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
- アモルファス炭素膜の成膜機構
- プラズマ成膜プロセスにおけるサブサーフェスでの反応過程解析
- マイクロホローカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
- 酸素プラズマ中でのSi表面水素の拳動
- 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
- MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
- 基板表面磁界がスパッタ薄膜結晶配向性に及ぼす影響
- OHラジカル注入によって形成したダイヤモンド薄膜のSTM/STS解析
- レーザーアブレーションを用いた環境調和型チャンバークリーニングプロセス
- レーザーアブレーションを利用した新規ラジカル注入法によるSiO_2/Si選択エッチングプロセスの制御
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- 微小重力下での管内強制流動沸騰におけるドライアウトメカニズムに関する研究
- プラズマ誘起表面科学の魅力
- Hラジカルを導入したRF CH3OHプラズマによるダイヤモンドの形成
- パルス変調プラズマCVDを用いた配向性ポリシリコン薄膜形成
- マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光法による原子密度計測
- 赤外半導体レーザー吸収分光による半導体プロセスモニタリング
- 6.マイクロ放電光源を用いたプラズマ吸収分光計測(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いたシリコン酸化膜の超高速エッチングおよびカーボンナノチューブの形成
- マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマを用いた超高速加工技術
- 5 システムLSIにおける低誘電率層間絶縁膜エッチング(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- スマートプラズマプロセス
- 5. RFプラズマCVDによるカーボンナノウォールの配向成長(プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題)
- ドライエッチング
- EID2000-7 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- EID2000-3 プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- 炭素材料を用いた空胴内マイクロ波放電の高気圧放電特性
- 液中プラズマを用いたナノグラフェンの高速合成技術 (特集 「グラフェン」の実務的な視点での開発トレンド)
- プラズマCVD法によるカーボンナノウォールの制御合成
- 基板表面磁界可変型マグネトロンスパッタによる鉄薄膜の配向性制御
- 宇宙・エネルギーとプラズマ
- 低エネルギー窒素イオンビームによるa-C膜へのイオン注入
- プローブ併用オプトガルバノ法による酸素負イオンの空間分布計測
- 28p-YD-10 反応性スパッタリングにおけるスパッタ中性In原子密度計測
- SR光によるCF_2薄膜およびフロライド金属薄膜の微細加工
- プラズマ源II(有磁場)
- プラズムを用いた細管内壁への薄膜コーティング
- 酸素直流グロー放電プラズマにおける負イオン密度空間分布
- レーザー光脱離を用いた酸素放電プラズマ中の負イオン密度計測
- 「プラズマの世界」の実施状況
- 第7回 「科学と生活のフェスティバル」 報告
- DC及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO_2エッチング特性の比較
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 長崎大学工学部プラズマ研究室
- 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用
- 6. フルオロカーボンラジカル(CF_x)の表面反応過程 : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
- ECR SiH_4プラズマ中のSi原子及びイオンの挙動
- リモート酸素プラズマを併用したポリシロキサンのレーザ蒸着
- ECR SiH_4プラズマプロセスにおけるラジカルの計測
- DCマグネトロンプラズマ及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO2エッチング特性の比較
- O_2/N_2ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるソルダーレジストとドライフィルムの表面改質
- 暮らし・環境・バイオとプラズマ
- 第71回応用物理学会学術講演会(2010年秋季)
- マグネトロンプラズマに及ぼす交流重畳電圧の影響
- 複数金属元素同時モニタリング光源を用いた吸収分光法による透明導電膜成膜スパッタリングプロセスの診断
- 交流重畳法を用いたマグネトロン放電構造の診断
- SiH_4プラズマ中における低周波変調電磁界による微粒子の除去・成長抑制
- プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析
- 細管内壁コーティング用走査磁界型同軸ECRプラズマの特性
- 細管内壁コーティング用移動磁界型同軸ECRプラズマの特性
- 第2章ビーム系の非線形波動現象 : 2-4プラズマメーザー効果
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
- トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル混合ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるビア底残渣のドライデスミア
- 非平衡大気圧プラズマを用いた柑橘ミドリカビ胞子殺菌手法 : 殺菌要因の検討
- 低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中の非接触ウエハ温度計測
- タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析
- Dry De-smear of Via Bottom Residue Using 60 Hz Nonequilibrium Atmospheric Pressure Plasma with Trifluoromethyle Trifluorovinyl Ether Mixing Gas
- 4槽回転型プラズマ成膜現像電子線真空リソグラフィ装置 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)
- 7.マイクロプラズマによる細管内面コーティング(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)