MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
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概要
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プラズマディスプレイパネルにおける電極保護膜として利用される酸化マグネシウム薄膜のいっそうの高品質化と高速成膜化を実現することを目指して、コンベンショナルなプレーナマグネトロンと誘導結合プラズマとを融合した新しい反応性スパッタリングプロセスを提案する。本報告では、これまでに得られた電気的放電特性とプラズマパラメータ(電子密度、電子温度)、発光特性についての実験結果を示し、誘導結合プラズマ支援プレーナマグネトロンスパッタリング装置開発の現状を報告する。
- 2002-01-18
著者
-
松田 良信
長崎大学工学部
-
藤山 寛
長崎大学工学部電気電子工学科
-
藤山 寛
長崎大学大学院生産科学研究科
-
小山 悠
長崎大学工学部大学院生産科学研究科
-
松田 良信
長崎大学工学部電気電子工学科
-
藤山 寛
長崎大学工学部
-
田代 佳
長崎大学工学部電気電子工学科
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