アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2009-06-12
著者
-
松田 良信
長崎大学工学部
-
篠原 正典
長崎大学
-
藤山 寛
長崎大学工学部電気電子工学科
-
篠原 正典
長崎大学大学院生産科学研究科
-
川副 大樹
長崎大学大学院生産科学研究科
-
稲吉 孝紀
長崎大学大学院生産科学研究科
-
河上 貴聡
長崎大学大学院生産科学研究科
-
藤山 寛
長崎大学大学院生産科学研究科
-
新田 祐樹
トーヨーエイテック株式会社
-
中谷 達行
トーヨーエイテック株式会社
-
篠原 正典
東北大学電気通信研究所
-
新田 祐樹
(株)トーヨーエイテック
-
中谷 達行
(株)トーヨーエイテック
-
松田 良信
長崎大学工学部電気電子工学科
-
藤山 寛
長崎大学
-
松田 良信
長崎大学 工学部 電気電子工学科
-
松田 良信
長崎大学
関連論文
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析 (第29回表面科学学術講演会特集号(2))
- ハーモニック電子サイクロトロン共鳴マイクロプラズマ源の開発
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析
- 誘導結合プラズマ支援スパッタによるアルミ添加酸化亜鉛薄膜の作成
- 平成10年度リフレッシュ理科教室報告
- 19pPSB-35 H_2Oの2分子解離吸着によるSi(100)-(2x1)表面上でのC欠陥生成
- SiGe表面の水素吸着・脱離過程
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験 (続報, 長尺透明伝熱管の導入と限界熱流束の測定)
- Si(100)表面上のベンゼン分子吸着過程
- アモルファス炭素膜のプラズマ気相化学堆積過程の観察
- 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
- アモルファス炭素膜の成膜機構
- プラズマ成膜プロセスにおけるサブサーフェスでの反応過程解析
- マイクロホローカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
- 多重外部反射赤外分光法の開発
- 細管内壁コーティングのためのヘリコン波プラズマ源の開発
- 23pB07 2nd Harmonic ECRによる低気圧マイクロプラズマの特性(プラズマ基礎II, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 酸素プラズマ中でのSi表面水素の拳動
- 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
- MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
- 基板表面磁界がスパッタ薄膜結晶配向性に及ぼす影響
- 半導体表面・界面反応の赤外分光観察
- 18aTF-6 SiH_2Cl_2分子の吸着・熱分解過程における表面水素の挙動
- SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
- C-11-7 多重内部反射型赤外分光法を用いたSiウェーハ上の汚染位置検出
- 14a-DJ-5 レーザー蛍光法によるプラズマ・壁相互作用の研究
- 29a-Y-9 レーザー螢光法による表面のスパッタリング過程の研究 II
- 3a-H-5 Hαレーザー蛍光法によるガンマ10セントラルセル水素原子密度の計測
- 29a-L-4 イオンビームスパッター原子の速度分布関数測定によるスパッタリング過程の研究
- 30p-QE-4 プロセシングプラズマ中の電解、粒子レーザー蛍光分光法による測定 I
- 1p-R-1 スパッタ鉄原子の速度分布関数のレーザー蛍光法による計測
- 5a-H-4 非等方スパッタリング域における放出角度分布のレーザー蛍光測定による研究
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- 短ギャップ同軸形マイクロ波放電の開始条件に及ぼす磁界の影響
- 31p-TM-1 初期位相平面の短時間発展に伴うボアンカレ断面の構造 II
- 4p-PS-59 初期位相平面の短時間発展に伴うポアンカレ断面の構造
- 4p-F6-1 磁化プラズマ中のプラズマメーザーとカオス
- 微小重力下での管内強制流動沸騰におけるドライアウトメカニズムに関する研究
- SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
- Si(100)へのSiH_4分子吸着過程
- 23pWA-8 SiH_4及びSi_2H_6分子SiGe表面吸着過程
- シリコン表面の初期酸化過程の赤外分光解析
- 25pW-3 Si(100)表面上のシラン及びジシラン分子の吸着状態
- 25pW-1 水素終端Si(100)2×1表面上のGe原子の挙動
- 24pW-9 Si(100)表面上のジシラン(Si_2H_6)吸着過程
- 4 ハーモニツクECRによる低気圧マイクロプラズマの生成(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)
- SiH_x(CH_3)_分子のSi表面吸着過程の赤外反射分光解析
- SiH_x(CH_3)_分子のSi表面吸着過程の赤外反射分光解析
- 27p-Y1-10 プラズマメーザーの実験的研究 II
- 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- EID2000-7 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- EID2000-3 プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- 炭素材料を用いた空胴内マイクロ波放電の高気圧放電特性
- 基板表面磁界可変型マグネトロンスパッタによる鉄薄膜の配向性制御
- III-1 趣旨説明(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)
- 宇宙・エネルギーとプラズマ
- 微小重力場への沸騰二相流の適用に関する基礎実験 (理工学実験)
- 低エネルギー窒素イオンビームによるa-C膜へのイオン注入
- プローブ併用オプトガルバノ法による酸素負イオンの空間分布計測
- SiGe表面の水素吸着・脱離過程
- Dynamics of Silicon Particles in DC Silane Plasmas Transported by a Modulated Magnetic Field ( Plasma Processing)
- 放電プラズマの生成・制御とその機能性薄膜作成プロセスへの応用
- プラズマ源II(有磁場)
- プラズムを用いた細管内壁への薄膜コーティング
- 酸素直流グロー放電プラズマにおける負イオン密度空間分布
- レーザー光脱離を用いた酸素放電プラズマ中の負イオン密度計測
- 「プラズマの世界」の実施状況
- 第7回 「科学と生活のフェスティバル」 報告
- DC及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO_2エッチング特性の比較
- Laser-Induced Fluorescence Observation of In-Atoms Produced by DC Reactive Sputtering of Indium-Tin-Oxide Target ( Plasma Processing)
- Influence of Heavy Particle Collision on Optical Emission in Cathode Fall of DC Argon/Silane Glow Discharge ( Plasma Processing)
- 25p-E-6 Neホローカソード放電の陰極降下領域の電界分布と発光強度分布
- ネオン原子の高リュードベリ状態のシュタルク構造
- 二段階レーザー励起オプトガルバノ法によるネオンホローカソード放電中の電界計測
- プラズマ診断用狭帯域二波長パルス色素レーザー
- 長崎大学工学部プラズマ研究室
- DCマグネトロンプラズマ及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO2エッチング特性の比較
- マグネトロンプラズマに及ぼす交流重畳電圧の影響
- 細管内壁コーティング用同軸型マグネトロンパルスプラズマの特性
- 同軸型マグネトロンパルスプラズマを用いた細管内壁コーティングに関する研究
- 交流重畳法を用いたマグネトロン放電構造の診断
- マルチホロ-陰極型同軸マグネトロンプラズマによる窒化チタン薄膜の形成
- SiH_4プラズマ中における低周波変調電磁界による微粒子の除去・成長抑制
- Effects of Nitrogen Ion Beam Irradiation on a-C and CN_x Thin Films
- Growth and Properties of CN_x Films Prepared by Reactive DC Magnetron Sputterirng
- プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析
- 細管内壁コーティング用走査磁界型同軸ECRプラズマの特性
- プラズマプロセスの赤外分光診断
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマが誘起する表面反応の解析 : 気相プラズマから液中プラズマ (特集 革新的プラズマ科学の新潮流)
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマプロセスの計測
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマプロセスの計測
- プラズマプロセスの赤外分光診断
- 大気圧プラズマが誘起する表面反応の赤外分光計測