4 ハーモニツクECRによる低気圧マイクロプラズマの生成(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2003-11-18
著者
関連論文
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析 (第29回表面科学学術講演会特集号(2))
- ハーモニック電子サイクロトロン共鳴マイクロプラズマ源の開発
- ロ-アハイブリッドパラメトリック不安定性による加熱と粒子輸送
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析
- 平成10年度リフレッシュ理科教室報告
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験
- 航空機による微小重力場の管内強制流動沸騰熱伝達実験 (続報, 長尺透明伝熱管の導入と限界熱流束の測定)
- 1a-Z-1 ローワハイブリッドパラメトリック不安定と加熱現象
- 4p-NGH-25 ローアハイブリッドパラメトリック不安定性による加熱と粒子輸送 II
- 31a-C-12 ローアハイブリッドパラメトリック不安定性による加熱と粒子輸送I
- アモルファス炭素膜のプラズマ気相化学堆積過程の観察
- 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
- アモルファス炭素膜の成膜機構
- プラズマ成膜プロセスにおけるサブサーフェスでの反応過程解析
- マイクロホローカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
- 多重外部反射赤外分光法の開発
- 細管内壁コーティングのためのヘリコン波プラズマ源の開発
- 23pB07 2nd Harmonic ECRによる低気圧マイクロプラズマの特性(プラズマ基礎II, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 酸素プラズマ中でのSi表面水素の拳動
- 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
- MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
- 基板表面磁界がスパッタ薄膜結晶配向性に及ぼす影響
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- 短ギャップ同軸形マイクロ波放電の開始条件に及ぼす磁界の影響
- 31p-TM-1 初期位相平面の短時間発展に伴うボアンカレ断面の構造 II
- 4p-PS-59 初期位相平面の短時間発展に伴うポアンカレ断面の構造
- 4p-F6-1 磁化プラズマ中のプラズマメーザーとカオス
- 微小重力下での管内強制流動沸騰におけるドライアウトメカニズムに関する研究
- 4 ハーモニツクECRによる低気圧マイクロプラズマの生成(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)
- 27p-Y1-10 プラズマメーザーの実験的研究 II
- 30p-SB-4 Induced Bremsstrahlung Radiationの実験的研究 I
- 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- EID2000-7 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
- EID2000-3 プラズマとスパッタ粒子空間分布の可視化 : プレーナマグネトロン放電からPDP放電まで
- 炭素材料を用いた空胴内マイクロ波放電の高気圧放電特性
- 基板表面磁界可変型マグネトロンスパッタによる鉄薄膜の配向性制御
- III-1 趣旨説明(シンポジウムIII : マイクロプラズマ研究の最近の進展)
- 宇宙・エネルギーとプラズマ
- 微小重力場への沸騰二相流の適用に関する基礎実験 (理工学実験)
- 28p-YD-10 反応性スパッタリングにおけるスパッタ中性In原子密度計測
- 1p-N-14 ダブルポンピングによるローアハイブリッド共鳴加熱 II
- 27p-G-9 ダブルポンピングによるローアハイブリッド共鳴加熱 I
- 3p-D-13 非共鳴型ローアハイブリットパラメトリック不安定性
- 4a-Q-2 不均一磁化プラズマ中の波動現象
- 5p-G-7 高周波磁化プラズマ中イオン音波と輸送現象(I)
- 磁化プラズマにおけるイオン音波の拡散に及ぼす影響
- Dynamics of Silicon Particles in DC Silane Plasmas Transported by a Modulated Magnetic Field ( Plasma Processing)
- 放電プラズマの生成・制御とその機能性薄膜作成プロセスへの応用
- 酸素直流グロー放電プラズマにおける負イオン密度空間分布
- レーザー光脱離を用いた酸素放電プラズマ中の負イオン密度計測
- DC及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO_2エッチング特性の比較
- Laser-Induced Fluorescence Observation of In-Atoms Produced by DC Reactive Sputtering of Indium-Tin-Oxide Target ( Plasma Processing)
- Influence of Heavy Particle Collision on Optical Emission in Cathode Fall of DC Argon/Silane Glow Discharge ( Plasma Processing)
- 25p-E-6 Neホローカソード放電の陰極降下領域の電界分布と発光強度分布
- ネオン原子の高リュードベリ状態のシュタルク構造
- 二段階レーザー励起オプトガルバノ法によるネオンホローカソード放電中の電界計測
- プラズマ診断用狭帯域二波長パルス色素レーザー
- DCマグネトロンプラズマ及びRFマグネトロンプラズマにおけるSiO2エッチング特性の比較
- マグネトロンプラズマに及ぼす交流重畳電圧の影響
- 細管内壁コーティング用同軸型マグネトロンパルスプラズマの特性
- 同軸型マグネトロンパルスプラズマを用いた細管内壁コーティングに関する研究
- 交流重畳法を用いたマグネトロン放電構造の診断
- マルチホロ-陰極型同軸マグネトロンプラズマによる窒化チタン薄膜の形成
- SiH_4プラズマ中における低周波変調電磁界による微粒子の除去・成長抑制
- Effects of Nitrogen Ion Beam Irradiation on a-C and CN_x Thin Films
- Growth and Properties of CN_x Films Prepared by Reactive DC Magnetron Sputterirng
- プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析
- 細管内壁コーティング用走査磁界型同軸ECRプラズマの特性
- 細管内壁コーティング用移動磁界型同軸ECRプラズマの特性
- 微小重力場への沸騰二相流の適用に関する基礎実験 (理工学実験)
- プラズマプロセスの赤外分光診断
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマが誘起する表面反応の解析 : 気相プラズマから液中プラズマ (特集 革新的プラズマ科学の新潮流)
- 走査プラズマ法による大面積均一アモルファスシリコン薄膜の試作
- マグネトロン放電
- 7.マイクロプラズマによる細管内面コーティング(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
- Characteristics of Scanning Mirror-type Magnetic Field Coaxial Electron Cyclotron Resonance Plasma for Inner Coating of Slender Glass Tubes
- 超大面積アモルファスシリコン薄膜の形成
- プラズマメ-ザ-効果によるカオスの基礎的研究
- 高周波電界による大振幅イオン音波の非線形減衰
- パルス電子ビ-ム生成プラズマにおけるビ-ムエネルギ-の散逸過程
- 31p-H3-1 プラズマメーザー効果による散逸系カオスの発生II(プラズマ物理・核融合(カオス,イオン波,ソリトン他))
- 29p-LL-3 プラズマメーザー効果による散逸系カオスの発生I(プラズマ物理・核融合(波動,不安定性と非線現象))
- 31a-A9-4 電子ビーム・プラズマ系における放射電磁波のスペクトル分析(31a A9 プラズマ物理・核融合(波動・ビーム・ダブルレア))
- 1a-BC-4 プラズマメーザの実験的研究(プラズマ物理・核融合(プラズマ基礎,理論・シミュレーション),第41回年会)
- 28p-TD-3 プラズマメーザー効果による散逸系カオスの初期値依存性(28pTD プラズマ物理・核融合(カオス,イオン波他))