走査プラズマ法による大面積均一アモルファスシリコン薄膜の試作
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概要
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The modulated magnetic field perpendicular to an electric field was applied to plasma chemical vapour deposition process. The magnetic field was able to scan the plasma and to diffuse it within a wide range. This scanning plasma method (SPM) was applied to produce a large-area (20cm×160cm) uniform amorphous-silicon thin film. The experiment proved that the SPM is very effective to produce the large-area thin films.
- 長崎大学工学部の論文
- 1986-07-00
著者
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