EID2000-7 反応性スパッタリングによるMgO薄膜作成プロセスの実験的・理論的検討
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概要
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アルゴン・酸素雰囲気中でのMgターゲットの反応性スパッタリングによるMgO膜成膜は、成膜速度が小さい欠点があるものの、プロセスコスト低減と膜質向上の観点から魅力的である。本研究では、この反応性スパッタリングプロセスに関し、実験的理論的検討を行なった。まず、導入酸素流量に応じて観測される、放電とそれに付随したスパッタリングおよび成膜における顕著なモード遷移の実験結果を示す。次に、導入酸素ガスのターゲットおよび基板(容器壁も含む)での吸着・脱離とターゲットの二次電子放出係数変化を考慮したガス粒子平衡に基づく反応性スパッタモデルを示し、MgOの反応性スパッタリングの統一的・定量的なモデル化について議論する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-06-15
著者
-
松田 良信
長崎大学工学部
-
藤山 寛
長崎大学工学部電気電子工学科
-
藤山 寛
長崎大学大学院生産科学研究科
-
松田 良信
長崎大学工学部電気電子工学科
-
藤山 寛
長崎大学工学部
-
大友 晃治
長崎大学 工学部 電気電子工学科
-
大友 晃治
長崎大学工学部電気電子工学科
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