シリコン表面の初期酸化過程の赤外分光解析
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概要
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- 2000-03-20
著者
-
木村 康男
東北大学電気通信研究所
-
庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
-
篠原 正典
長崎大学
-
篠原 正典
長崎大学大学院生産科学研究科
-
庄子 大生
東北大学電気通信研究所
-
篠原 正典
東北大学電気通信研究所
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