多重内部反射型赤外吸収分光法によるシリコン表面の電気化学エッチング過程の"その場"観察
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概要
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- 2004-02-10
著者
-
石井 久夫
千葉大学先進科学研究教育センター
-
石井 久夫
東北大・通研
-
木村 康男
東北大学電気通信研究所
-
庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
-
石井 久夫
東北大学電気通信研究所
-
庭野 道夫
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
-
細井 宜伸
独立行政法人科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業
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