篠原 正典 | 長崎大学
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概要
関連著者
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篠原 正典
長崎大学
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篠原 正典
長崎大学大学院生産科学研究科
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篠原 正典
東北大学電気通信研究所
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藤山 寛
長崎大学大学院生産科学研究科
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松田 良信
長崎大学工学部電気電子工学科
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
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木村 康男
東北大学電気通信研究所
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松田 良信
長崎大学工学部
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藤山 寛
長崎大学
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松田 良信
長崎大学
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藤山 寛
長崎大学工学部電気電子工学科
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篠原 正典
長崎大学工学部電気電子工学科
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瀬山 顕雄
東北大学電気通信研究所
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鎌倉 望
東北大学電気通信研究所
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庄子 大生
東北大学電気通信研究所
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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藤山 寛
長崎大学工学部
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深江 陽大
長崎大学
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天野 勝裕
長崎大学
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中谷 達行
トーヨーエイテック株式会社
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高見 佳生
長崎大学
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高木 雄也
長崎大学
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藤山 寛
長崎大学大学院 生産科学研究科
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松田 良信
長崎大学 工学部 電気電子工学科
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川副 大樹
長崎大学大学院生産科学研究科
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稲吉 孝紀
長崎大学大学院生産科学研究科
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河上 貴聡
長崎大学大学院生産科学研究科
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原 幸治郎
長崎大学大学院生産科学研究科
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新田 祐樹
トーヨーエイテック株式会社
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中谷 達行
トーヨーエイテック(株)表面処理事業部
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原 幸治郎
長崎大学
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中谷 達行
トーヨーエイテック
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新田 祐樹
(株)トーヨーエイテック
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中谷 達行
(株)トーヨーエイテック
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赤間 洋助
東北大学電気通信研究所
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前濱 剛廣
琉球大学工学部
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前濱 剛廣
琉球大学工学部電気電子工学科
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津村 高成
長崎大学
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八木 翔平
長崎大学
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篠原 正典
長崎大学大学院工学研究科
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丸本 洋
長崎大学工学部大学院生産科学研究科
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山崎 聡
産総研ナノテク部門
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三木 一司
物材機構
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三木 一司
電総研
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山崎 聡
JRCAT-融合研
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安田 哲二
Jrcat-産総研:次世代半導体-産総研
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西澤 正泰
半導体MIRAI産業技術総合研究所次世代半導体研究センター
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岩田 忠
長崎大学
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閑 亮史
長崎大学
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小峰 一輝
長崎大学
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広瀬 文彦
山形大:jst
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三木 一司
物材機構ナノマテ:産総研ナノテク
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三木 一司
物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
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三木 一司
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター
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三木 一司
(独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ
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西澤 正泰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
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山崎 聡
筑波大学 電子・物理工学専攻
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西澤 正泰
JRCAT-産総研
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三木 一司
ナノテク部門-産総研
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篠原 正典
東北大電通研
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鎌倉 望
東北大電通研
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木村 康男
東北大電通研
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庭野 道夫
東北大電通研
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坂本 仁志
三菱重工業株式会社基盤技術研究所
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広瀬 文彦
三菱重工業株式会社基盤技術研究所
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井手 義行
長崎大学大学院生産科学研究科
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倉本 宰弘
長崎大学大学院生産科学研究科
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小島 裕爾
長崎大学大学院生産科学研究科
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藤山 寛
長崎大院生産
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井上 弘之
長崎大院生産
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黒木 大輔
長崎大院生産
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古江 陽光
長崎大院生産
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松田 良信
長崎大院生産
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篠原 正典
長崎大院生産
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片桐 輝昭
長崎大学工学部電気電子工学科
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岩辻 圭太郎
長崎大学工学部電気電子工学科
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馬場 健次
長崎大学工学部大学院生産科学研究科
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山本 恭一
凸版印刷株式会社総合研究所
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宇山 春夫
凸版印刷株式会社総合研究所
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小山 悠
長崎大学工学部大学院生産科学研究科
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岩谷 勝
長崎大学工学部電気電子工学科
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木村 康男
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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丸尾 和幸
アドバンテスト研究所
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遠藤 礼暁
アドバンテスト研究所
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前田 泰宏
アドバンテスト研究所
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山崎 聡
東芝メディカルシステムズ株式会社:jeita超音波専門委員会
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安田 哲二
Jrcat-nair
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坂本 仁志
三菱重工業
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山崎 聡
Jrcat(アトムテクノロジー研究体)-nair(産業技術融合領域研究所)
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吉田 裕太
長崎大学
著作論文
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析
- 誘導結合プラズマ支援スパッタによるアルミ添加酸化亜鉛薄膜の作成
- 19pPSB-35 H_2Oの2分子解離吸着によるSi(100)-(2x1)表面上でのC欠陥生成
- SiGe表面の水素吸着・脱離過程
- アモルファス炭素膜のプラズマ気相化学堆積過程の観察
- 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程のちがい
- アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
- アモルファス炭素膜の成膜機構
- プラズマ成膜プロセスにおけるサブサーフェスでの反応過程解析
- マイクロホローカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
- 多重外部反射赤外分光法の開発
- 細管内壁コーティングのためのヘリコン波プラズマ源の開発
- 23pB07 2nd Harmonic ECRによる低気圧マイクロプラズマの特性(プラズマ基礎II, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 酸素プラズマ中でのSi表面水素の拳動
- 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
- MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
- 基板表面磁界がスパッタ薄膜結晶配向性に及ぼす影響
- 半導体表面・界面反応の赤外分光観察
- 18aTF-6 SiH_2Cl_2分子の吸着・熱分解過程における表面水素の挙動
- SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
- C-11-7 多重内部反射型赤外分光法を用いたSiウェーハ上の汚染位置検出
- SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
- Si(100)へのSiH_4分子吸着過程
- 23pWA-8 SiH_4及びSi_2H_6分子SiGe表面吸着過程
- シリコン表面の初期酸化過程の赤外分光解析
- 25pW-3 Si(100)表面上のシラン及びジシラン分子の吸着状態
- 25pW-1 水素終端Si(100)2×1表面上のGe原子の挙動
- 24pW-9 Si(100)表面上のジシラン(Si_2H_6)吸着過程
- SiH_x(CH_3)_分子のSi表面吸着過程の赤外反射分光解析
- SiH_x(CH_3)_分子のSi表面吸着過程の赤外反射分光解析
- SiGe表面の水素吸着・脱離過程
- プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析
- プラズマプロセスの赤外分光診断
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマが誘起する表面反応の解析 : 気相プラズマから液中プラズマ (特集 革新的プラズマ科学の新潮流)
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマプロセスの計測
- 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマプロセスの計測
- プラズマプロセスの赤外分光診断
- 大気圧プラズマが誘起する表面反応の赤外分光計測