鎌倉 望 | 東北大学電気通信研究所

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概要

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関連著者

• 鎌倉 望

  東北大学電気通信研究所

• 篠原 正典

  長崎大学

• 篠原 正典

  長崎大学大学院生産科学研究科

• 篠原 正典

  東北大学電気通信研究所

• 木村 康男

  東北大学電気通信研究所

• 庭野 道夫

  東北大学電気通信研究所

• 瀬山 顕雄

  東北大学電気通信研究所

• 庭野 道夫

  東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設

• 山崎 聡

  産総研ナノテク部門

• 三木 一司

  物材機構

• 三木 一司

  電総研

• 山崎 聡

  JRCAT-融合研

• 安田 哲二

  Jrcat-産総研:次世代半導体-産総研

• 西澤 正泰

  半導体MIRAI産業技術総合研究所次世代半導体研究センター

• 三木 一司

  物材機構ナノマテ:産総研ナノテク

• 三木 一司

  物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 三木 一司

  産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター

• 三木 一司

  物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 三木 一司

  (独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター

• 三木 一司

  (独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ

• 西澤 正泰

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

• 山崎 聡

  筑波大学 電子・物理工学専攻

• 西澤 正泰

  JRCAT-産総研

• 三木 一司

  ナノテク部門-産総研

• 篠原 正典

  東北大電通研

• 鎌倉 望

  東北大電通研

• 木村 康男

  東北大電通研

• 庭野 道夫

  東北大電通研

• 山崎 聡

  東芝メディカルシステムズ株式会社:jeita超音波専門委員会

• 安田 哲二

  Jrcat-nair

• 山崎 聡

  Jrcat(アトムテクノロジー研究体)-nair(産業技術融合領域研究所)

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著作論文

• 19pPSB-35 H_2Oの2分子解離吸着によるSi(100)-(2x1)表面上でのC欠陥生成
• 18aTF-6 SiH_2Cl_2分子の吸着・熱分解過程における表面水素の挙動
• SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
• SiGe表面へのSiH_4の吸着過程
• Si(100)へのSiH_4分子吸着過程
• 23pWA-8 SiH_4及びSi_2H_6分子SiGe表面吸着過程
• スピン分解光電子分光によるFe薄膜の磁性と電子状態の研究

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